Nanoscribe成立于2007年，作為卡爾斯魯厄理工學院研究小組的分拆，目前，Nanoscribe已經成為納米和微米3D打印的出名企業，并且在許多項目上都有所作為。Nanoscribe的激光光刻系統用于3D打印世界上特別小的強度高的3D晶格結構，它使用高精度激光來固化光刻膠中具有小至千分之一毫米特征的結構。換句話說，激光使基于液體的材料的小液滴內部的特定層硬化。為了進一步適應日益增長的業務，Nanoscribe還宣布將把設施搬遷到KIT投資3000萬歐元的蔡司創新中心。增材制造有助于提高制造效率和降低成本。江蘇微光學增材制造三維微納米加工系統

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。微流道增材制造工藝Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業中的特點與應用。

3D打印通常是采用數字技術材料打印機來實現的。常在模具制造、工業設計等領域被用于制造模型，后逐漸用于一些產品的直接制造，已經有使用這種技術打印而成的零部件。該技術在珠寶、鞋類、工業設計、建筑、工程和施工（AEC）、汽車，航空航天、牙科和YL產業、教育、地理信息系統、土木工程、**以及其他領域都有地理信息系統所應用。

德國Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列儀器是目前世界公認的打印精度Z高的微納米3D打印機。跟傳統的以激光立體光刻為**的高精3D打印機相比，利用雙光子微光刻原理的Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。

  QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義金屬3D打印技術具有廣闊的應用前景。

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產品，在科學研究中得到了較廣的應用，并在哈佛大學納米系統中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯邦理工大學和慶應義塾大學使用。3D打印技術可用于制造復雜的工具和模具。高精度增材制造微納加工系統

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解金屬材料增材制造技術。江蘇微光學增材制造三維微納米加工系統

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點江蘇微光學增材制造三維微納米加工系統