Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。增材制造輪的優勢在于其高度定制化和節能環保的特點。上海工業級增材制造微納加工系統

增材制造技術能夠簡化光學器件的制造流程，縮短交貨期并降低材料消耗。更重要的是，增材制造技術能夠實現功能集成的優化設計方案，尤其在衛星光學系統制造領域，增材制造技術能夠滿足用戶對輕型光學系統不斷增長的需求，并實現下一代高附加值光學器件的制造。通過增材制造技術開發的下一代光學儀器中，將越來越多采用緊湊的功能集成設計，如集成隔熱，冷卻通道，局限的機械和熱接口，以及將光學功能作為設備自身結構的一部分。緊湊集成化設計減少了組件裝配過程中出現問題的風險，同時開辟了制造冷卻光學系統，有源光學系統或自由曲面的新方式。陶瓷增材制造技術的凈成形能力，還能夠提高準確性，改善集成/結合過程的質量。在成就高附加值零件方面，3D打印的應用還包括很多，除了打印極度復雜的結構、打印混合材料，3D打印因為技術種類繁多也帶來了高附加值零件的創新空間，例如3D打印感應器、3D打印多層電路、3D打印電池等等上海Nanoscribe增材制造三維光刻增材制造輪的生產過程可以在短時間內完成。

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高.需要小批量精密金屬零件？納糯三維提供快速交付服務。

增材制造（AM）是近年來特別熱門和相當有**性的制造工藝之一。這種新型制造工藝只要把設計輸入機器里，然后把功能部件從機器的另一邊取出來即可，這種想法以前出現在上一代人的科幻小說里，雖然現在我們仍離《星際迷航》電影里那樣復制人類的技術還很遙遠，但我們正在縮小這個差距。塑料、橡膠、陶瓷、油墨、貴金屬和一些特殊合金材料，每天都在不同的行業中被制造及應用，其應用領域非常廣，包括普通玩具、模具，甚至到人體部位等。現在這一切都可以利用3D打印（增材制造）技術打印出來。Nanoscribe公司作為精密之傲高精度3D打印系統制造商，于2018年在中國成立了分公司，加強了德國高科技公司在中國銷售活動，完善了整個亞太地區的客戶服務范圍。建筑行業嘗試增材制造技術建造房屋，提高施工效率并減少材料浪費。微光學增材制造PPGT

增材制造為創新設計提供了更多可能性。上海工業級增材制造微納加工系統

借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。上海工業級增材制造微納加工系統