砷化鎵也有容易被腐蝕的特點(diǎn),比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠,也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后,需要去除光刻膠之后進(jìn)行下一步。有時(shí)直接采用+異丙醇的方式就可以去除。但是對(duì)于等離子體處理過(guò)的光刻膠,一般就比較難去除干凈。有的人把加熱到60℃,雖然去膠效果快了一些,但是沸點(diǎn)是60℃,揮發(fā)的特別快,而且**蒸汽也有易燃的風(fēng)險(xiǎn),因此找一款去膠效果好的光刻膠剝離液十分有必要。介紹常見(jiàn)的一款剝離液,該剝離液去膠效果好,但是對(duì)砷化鎵有輕微腐蝕,不易長(zhǎng)時(shí)間浸泡。工藝參數(shù)因產(chǎn)品和光刻膠的種類(lèi)而不同,但基本上都要加熱。選擇剝離液,提升工作效率,降低成本。滁州BOE蝕刻液剝離液按需定制
當(dāng)前級(jí)別腔室101對(duì)應(yīng)的過(guò)濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過(guò)閥門(mén)開(kāi)關(guān)60關(guān)閉當(dāng)前級(jí)別腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20與過(guò)濾器30之間的液體流通,從而可以在閥門(mén)開(kāi)關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過(guò)濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無(wú)法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液;與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20,各級(jí)腔室10分別通過(guò)管道與相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連接,存儲(chǔ)箱20用于收集和存儲(chǔ)來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過(guò)濾器30用于過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的存儲(chǔ)箱20的剝離液,并且過(guò)濾器30還可以通過(guò)管道與下一級(jí)腔室102連接,從而過(guò)濾器30可以將過(guò)濾后的剝離液輸送給下一級(jí)腔室102。各腔室10設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)可參考現(xiàn)有設(shè)計(jì)在此不再贅述。各級(jí)腔室10分別于相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20通過(guò)管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲(chǔ)箱20中,由存儲(chǔ)箱20來(lái)收集和存儲(chǔ)。各級(jí)腔室10的存儲(chǔ)箱20分別與相應(yīng)的過(guò)濾器30通過(guò)管道連接,經(jīng)存儲(chǔ)箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應(yīng)的過(guò)濾器30過(guò)濾后才經(jīng)管道輸送至下一級(jí)腔室102。 佛山剝離液推薦廠家剝離液的作用和使用場(chǎng)景。
能夠增強(qiáng)親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤(rùn)濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過(guò)具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明,不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同,不同的是配方二中加入有潤(rùn)濕劑,上述所描述的潤(rùn)濕劑是用于增強(qiáng)親水性的,滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角,接觸角可用來(lái)衡量潤(rùn)濕程度,水滴角測(cè)試儀可測(cè)量接觸角,從潤(rùn)濕角度考慮,接觸角<90°,且接觸角越小潤(rùn)濕效果越好加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液,在滴落在高世代面板后,通過(guò)水滴角測(cè)試儀測(cè)接觸角,檢測(cè)圖如圖1所示,三次測(cè)試的接觸角如下表二:上述兩種不同組分的剝離液作接觸角測(cè)試接觸角配方一配方二測(cè)試一,加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液,其滴落在高世代面板后,其接觸角比未加入潤(rùn)濕劑的配方一的剝離液潤(rùn)濕效果更好;請(qǐng)參閱圖2所示,將配方一所制得的剝離液以及配方二所制得的剝離液進(jìn)行光刻膠剝離,圖2中的陰影圓點(diǎn)為浸泡時(shí)間t1后光刻膠殘留,明顯地,可以看出配方二中t1時(shí)間后光刻膠殘留量小,而配方一中產(chǎn)品邊緣處光刻膠的殘留量大。
從而可以在閥門(mén)開(kāi)關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過(guò)濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無(wú)法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液;與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20,各級(jí)腔室10分別通過(guò)管道與相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連接,存儲(chǔ)箱20用于收集和存儲(chǔ)來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過(guò)濾器30用于過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的存儲(chǔ)箱20的剝離液,并且過(guò)濾器30還可以通過(guò)管道與下一級(jí)腔室102連接,從而過(guò)濾器30可以將過(guò)濾后的剝離液輸送給下一級(jí)腔室102。各腔室10設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)可參考現(xiàn)有設(shè)計(jì)在此不再贅述。各級(jí)腔室10分別于相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20通過(guò)管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲(chǔ)箱20中,由存儲(chǔ)箱20來(lái)收集和存儲(chǔ)。各級(jí)腔室10的存儲(chǔ)箱20分別與相應(yīng)的過(guò)濾器30通過(guò)管道連接,經(jīng)存儲(chǔ)箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應(yīng)的過(guò)濾器30過(guò)濾后才經(jīng)管道輸送至下一級(jí)腔室102。本申請(qǐng)中,腔室10及過(guò)濾器30可以采用與現(xiàn)有技術(shù)相同的設(shè)計(jì)。處于剝離制程中的玻璃基板。如何正確使用剝離液。
本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問(wèn)題,而避免其使用。近年來(lái),為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問(wèn)題點(diǎn),還報(bào)道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專(zhuān)利文獻(xiàn)1),由于剝離時(shí)的抗蝕劑沒(méi)有微細(xì)地粉碎,因此存在近年的微細(xì)的布線間的抗蝕劑難以除去的問(wèn)題點(diǎn)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2002-323776號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問(wèn)題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細(xì)的布線間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問(wèn)題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專(zhuān)利文獻(xiàn)1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細(xì)的布線間的抗蝕劑也能細(xì)小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。剝離液分為溶劑型和水系兩種類(lèi)別;滁州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液供應(yīng)
剝離液可以用在哪些制程段上;滁州BOE蝕刻液剝離液按需定制
能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒(méi)有特別限定,例如,可以舉出在設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說(shuō)明的是,浸漬時(shí),可以搖動(dòng)基材,或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波。抗蝕劑的種類(lèi)沒(méi)有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類(lèi)也沒(méi)有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會(huì)社制)等。施加抗蝕劑的基材沒(méi)有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒(méi)有特別限定。滁州BOE蝕刻液剝離液按需定制