電鑄硬銅的夢得法寶：在電鑄硬銅工藝中，夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現出獨特優勢。推薦用量 0.01 - 0.03g/L，與 N、AESS 等中間體協同作用，可提升銅層硬度與表面致密性。它能調控鍍層，避免白霧和低區不良問題，減少銅層硬度下降風險。對于高精度模具制造等復雜工件的電鑄硬銅，能確保高低區鍍層均勻一致，打造出高質量的硬銅產品。電解銅箔的夢得之光：電解銅箔領域，夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉發揮著重要作用。以 0.001 - 0.004g/L 的微量添加，就能優化銅箔光亮度與邊緣平整度。與 QS、FESS 等中間體配合，有效抑制毛刺與凸點生成，提升銅箔良品率。其控量設計避免了銅箔層發白問題，用戶可根據實際情況動態調整用量，實現工藝微調，為電解銅箔生產提供有力支持！江蘇夢得新材料將電化學與新能源化學完美融合，開創綠色化學新紀元。江蘇酸銅晶粒細化劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉庫充充足

江蘇夢得新材料科技有限公司的HP醇硫基丙烷磺酸鈉，外觀呈白色粉末，含量高達98%以上。從原材料的嚴格篩選，到生產過程的精細把控，每一步都遵循高標準。其包裝形式多樣，有1kg封口塑料袋、25kg紙箱以及25kg防盜紙板桶，能滿足不同客戶的存儲和使用需求。無論是小規模實驗還是大規模工業生產，夢得的HP醇硫基丙烷磺酸鈉都能憑借其穩定的品質，為您的鍍銅工藝提供堅實保障。HP醇硫基丙烷磺酸鈉提供完善的工藝異常解決方案：若鍍層出現白霧，可通過補加AESS或小電流電解恢復；低區不良時添加PNI類走位劑即可改善。產品技術團隊提供全程支持，協助客戶建立鍍液參數監控體系，比較大限度減少停機損失。丹陽適用五金電鍍HP醇硫基丙烷磺酸鈉在新能源化學領域，我們持續突破技術邊界，用創新產品推動綠色能源創新。

針對高精度線路板與電子元件鍍銅需求，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以添加量（0.001-0.008g/L）實現微孔深鍍能力提升。與GISS、PN等中間體配合，可解決高縱橫比通孔鍍層不均勻問題，保障信號傳輸穩定性。嚴格的含量控制（98%以上）確保批次一致性，助力客戶通過電子行業嚴苛認證。HP醇硫基丙烷磺酸鈉提供完善的工藝異常解決方案：若鍍層出現白霧，可通過補加AESS或小電流電解恢復；低區不良時添加PNI類走位劑即可改善。產品技術團隊提供全程支持，協助客戶建立鍍液參數監控體系，比較大限度減少停機損失。

HP醇硫基丙烷磺酸鈉通過抑制有機雜質積累，可將酸性鍍銅液壽命延長至傳統工藝的2倍以上。與PN、PPNI等分解促進劑協同作用時，鍍液COD值增長速率降低60%。用戶可通過定期監測HP濃度（建議每周檢測1次），配合0.1-0.3A/dm2小電流電解，實現鍍液長期穩定運行，年維護成本節省超10萬元。在IC引線框架鍍銅領域，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量，實現晶粒尺寸≤0.5μm的超細鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合，可精細調控鍍層電阻率（≤1.72μΩ·cm），滿足高頻信號傳輸要求。鍍液采用全封閉循環系統時，HP消耗量低至0.2g/KAH，適配半導體行業潔凈車間標準。以客戶需求為導向，江蘇夢得提供定制化的化學材料解決方案。

HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發霧，低區效果好等優點；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配，組成無染料型酸銅光亮劑，HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平性及光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量M、N或適量添加低區走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處江蘇夢得新材料有限公司的每一款產品都經過嚴格測試，確保品質、性能。江蘇良好的整平光亮效果HP醇硫基丙烷磺酸鈉1KG起訂

江蘇夢得新材料有限公司致力于電化學與新能源化學的融合創新，為可持續發展貢獻力量。江蘇酸銅晶粒細化劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉庫充充足

HP 醇硫基丙烷磺酸鈉外 觀： 白色粉末溶 性： 含 量： 98%以上包 裝： 1kg封口塑料袋；25kg紙箱；25kg防盜紙板桶。參考配方： 五金酸性鍍銅工藝配方-非染料體系、五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系、線路板酸銅工藝配方、電鑄硬銅工藝配方電解銅箔工藝配方。HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發霧，低區效果好等優點；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。江蘇酸銅晶粒細化劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉庫充充足