氧化退火爐在半導體傳感器制造中有哪些應用？

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賽瑞達智能電子裝備（無錫）有限公司2025-06-17

在 MEMS 傳感器制造中，退火用于釋放結構應力、修復刻蝕損傷并激其活摻雜。例如，壓力傳感器的硅膜片需在 1000℃左右的 Ar 氣氛中退火，以提高膜片的機械強度和穩定性；氣體傳感器的金屬氧化物薄膜則需通過 400-600℃的 O?退火，優化表面活性和氣體吸附性能。

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簡介：賽瑞達成立于2021年，專注于半導體設備的研發、生產與銷售。公司位于無錫，致力于提供定制化解決方案。

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