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LPCVD 的工作原理是什么??

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賽瑞達(dá)智能電子裝備(無錫)有限公司2025-04-19

在低壓環(huán)境下,先把氣體源(也就是氣態(tài)前驅(qū)物)引入反應(yīng)室。接著將基片加熱到特定溫度,使氣體前驅(qū)物能發(fā)生反應(yīng)。當(dāng)氣體分子與基片表面接觸,就會(huì)分解或進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)沉積物,也就是我們要的薄膜材料,同時(shí)還會(huì)釋放出氣體副產(chǎn)物。整個(gè)過程通過控制低壓條件,讓反應(yīng)更可控,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)均勻的薄膜沉積。

賽瑞達(dá)智能電子裝備(無錫)有限公司
賽瑞達(dá)智能電子裝備(無錫)有限公司
簡(jiǎn)介:賽瑞達(dá)成立于2021年,專注于半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售。公司位于無錫,致力于提供定制化解決方案。
簡(jiǎn)介: 賽瑞達(dá)成立于2021年,專注于半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售。公司位于無錫,致力于提供定制化解決方案。
賽瑞達(dá)致力于成為半導(dǎo)體裝備的主導(dǎo)品牌。
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