快速退火爐RTP的原理是什么？

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東莞市晟鼎精密儀器有限公司2024-05-10

半導體快速退火爐通過高功率的電熱元件，如加熱電阻來產生高溫。在快速退火爐中，通常采用氫氣或氮氣作為氣氛保護，以防止半導體材料表面氧化和污染。半導體材料在高溫下快速退火后，會重新結晶和再結晶，從而使晶體缺陷減少，改善半導體的電學性能，提高設備的可靠性和使用壽命。

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簡介：晟鼎精密主營產品RTP快速退火爐、等離子清洗機、等離子去膠機、接觸角測量等表面性能處理及檢測設備。

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