技術實現要素：本發明解決的技術問題在于提供高速高響應度的硅基光電二極管及其制備方法，在不影響光電二極管響應度的前提下，解決了硅基光電二極管響應速度慢的問題，實現硅基光電二極管高響應度與高響應速度同時提升。本發明是通過以下技術方案來實現：一種高速高響應度的硅基光電二極管，包括背面設有背面電極的襯底；襯底正面依次設有高反層、外延層、注入層、氧化硅層、氮化硅層和正面金屬電極；所述的高反層上開設有用于形成電流路徑的刻蝕孔，以及與正面金屬電極相對應的刻蝕區；所述的注入層包括保護環以及設在其內的有源區；所述的正面金屬電極還貫穿氧化硅層、氮化硅層與有源區相連接。所述的襯底為電阻率20～100為ohm·cm的硅基襯底，襯底背面直接做金屬化處理形成背面電極。所述的高反層由折射率～～；高反層上開設的刻蝕孔為矩陣排列的圓形孔，或者為同心環形孔。所述的刻蝕孔為均勻分布的圓形孔時，孔直徑為10～50um，孔間距為15～50um，圓形孔的總面積為結面積的1/2；所述的刻蝕孔為同心環形孔時，同心環中心與正面金屬電極的中心重合，同心環中心為刻蝕區，相鄰環間距5～20um。所述的外延層淀積在高反層上；在外延層上分別以n型離子注入形成保護環。硅光電二極管參數哪家棒！世華高。進口硅光電二極管參數

    主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展，世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展，世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。所述的有源區為b離子源注入，注入劑量為1e15～2e15；所述的正面金屬電極是在濺射al之后刻蝕形成。與現有技術相比。國產硅光電二極管找哪家硅光電二極管電路哪家好？世華高。

    其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展，世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。實施例一一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，具體步驟如下：稱取、，依次加入2ml乙酸、6ml乙醇和6ml水，攪拌一定時間，使固體粉末完全溶解；然后，加入，攪拌24h，得到紡絲溶液；移取7ml紡絲溶液到10ml注射器中，設置靜電紡絲工藝參數：注射器推進速度3mm/h，紡絲電壓18kv，接收距離8cm，滾筒轉速200r/min，在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復合纖維，150℃烘箱中干燥過夜，烘干后置于600℃馬弗爐中煅燒2h，熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極；配制30ml濃度為5mmol/l硝酸鋅、5mmol/l碲酸鈉和，攪拌均勻，轉入50ml水熱反應釜中；將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應釜內，fto導電面朝下，密封水熱反應釜，置于恒溫干燥箱中，160℃水熱反應10h；反應結束，取出fto電極，水洗3次，60℃下真空干燥8h；干燥后，將薄膜放入管式爐內，氮氣保護條件下煅燒。

    本發明屬于光電催化技術領域，具體涉及一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，可以實現znte光生載流子的定向分離，并加速界面co2還原反應的活性。背景技術：能源危機和溫室效應是人類目前急需解決的關鍵科學難題，以太陽能驅動的co2還原為解決這些問題提供了一個理想的途徑，該反應綠色、**，條件溫和，吸引了多國和科研人員的目光。光電催化反應技術整合光催化和電催化技術的優勢,從而實現對co2還原更高的效率和更理想的選擇性。目前，光電催化co2還原的效率依然很低，太陽能到化學能的轉化效率遠低于工業應用所需的10％效率，根本原因在于載流子復合嚴重，界面反應動力學緩慢。為了推進光電催化co2還原技術的實際應用，關鍵是開發**載流子分離的光陰極材料。znte是一種可見光響應的p型半導體()，其導帶邊電勢()遠負于其它半導體，能克服co2還原的熱力學勢壘，是目前光(電)催化co2還原的理想材料。但是，單一znte光電極材料依然無法**分離光生載流子，大部分載流子在界面反應發生之前復合損失。構建半導體納米異質結是分離光生載流子的通用途徑，但該方法往往需要兩個半導體之間的能帶匹配，且兩相界面需有利于載流子傳輸。這樣，很大地限制了半導體材料的選擇。因此。濱松光電二極管選世華高半導體。

    便于操作人員將高壓二極管硅疊從石英玻璃罩1中取出；上固定板3的一側設有控制面板，控制面板的一側固定設有電磁鐵開關、溫度檢測儀開關、熔深檢測儀開關和感應線圈開關，電磁鐵6、溫度檢測儀13、熔深檢測儀14分別通過電磁鐵開關、溫度檢測儀開關、熔深檢測儀開關和感應線圈開關與外接電源電性連接。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展，世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。感應線圈16通過感應線圈開關與高頻加熱電源電性連接，真空電磁閥9、微型真空泵10、氮氣電磁閥11和氮氣充氣泵12均通過plc控制器4與外接電源電性連接。具體使用時，本實用新型一種高壓二極管硅疊中頻真空焊接系統，將待焊接硅疊放置在石英玻璃罩1下端的下固定板7上，放置好后。硅光電二極管供應商就找世華高！汕頭國產硅光電二極管

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    世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。高反層109由高折射率薄膜與低折射率薄膜交替疊加組成；2)利用等離子刻蝕機在高反層109上以干法刻蝕開設刻蝕孔，并刻蝕掉與正面金屬電極106相對的高反層109；3)刻蝕完成后，在高反層109上以化學氣相淀積的方法生長電阻率500～1000ohm·cm的n-外延層，其厚度與耗盡區寬度相當；4)在外延層101上以as離子源進行n型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成保護環102。與保護環102間距12～20um，在外延層101上以b離子源進行p型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成有源區103；5)在保護環102和有源區103上通過熱氧化法生成sio2層104，在sio2層上方淀積生長si3n4層105；6)接連刻穿si3n4層和sio2層形成接觸孔，然后濺射al，并將濺射層刻蝕形成正面金屬電極106；7)在襯底107背面直接進行金屬化處理形成背面電極108。下面給出具體的實施例。實施例11)在n+重摻雜的襯底107上濺射生成厚度3～5um的高反層109，2)利用等離子刻蝕機干法刻蝕工藝在高反層109刻孔；3)高反層109上通過淀積的方法生長n-外延層101。進口硅光電二極管參數