以p型離子注入形成有源區；所述的氧化硅層為熱氧化生成sio2層，所述的氮化硅層為淀積生長的si3n4層；所述的正面金屬電極是在濺射后經刻蝕成形。所述外延層的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層厚度wepi根據耗盡區寬度wd確定：wepi≈wd，而wd≥w入/2，其中w入＝f(λ)，w入為入射光入射深度，λ為入射光波長。一種高速高響應度的硅基光電二極管的制備方法，包括以下操作：1)在襯底上濺射生成高反層；2)高反層開設刻蝕孔；3)高反層上通過淀積的方法生長外延層；4)在外延層上通過離子注入分別形成保護環和有源區；5)在保護環和有源區上生成sio2層，然后在sio2層上方生成si3n4層；6)在sio2層、si3n4層上刻出接觸孔，然后濺射金屬，濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極；7)在襯底的背面做金屬化處理形成背面電極。所述的襯底采用電阻率20～100為ohm·cm的低電阻率硅材料；襯底直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸；所述的高反層是由折射率～～，通過化學氣相淀積或光學鍍膜技術生成；所述的外延層的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層的厚度與耗盡區寬度相當；所述的保護環為as離子源注入，注入劑量為1e15～2e15。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳。硅光電二極管陣列 選擇世華高。杭州光電硅光電二極管特性

6)在sio2層104、si3n4層105上刻出接觸孔，然后濺射金屬，濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極106；7)在襯底107的背面做金屬化處理形成背面電極108。進一步的，所述的襯底107采用電阻率20～100為ohm·cm的低電阻率硅材料；襯底107直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸；所述的高反層109是由折射率～～，通過化學氣相淀積或光學鍍膜技術生成；所述的外延層101的電阻率為500～1000ohm·cm，外延層101的厚度與耗盡區寬度相當；所述的保護環102為as離子源注入，注入劑量為1e15～2e15。所述的有源區103為b離子源注入，注入劑量為1e15～2e15；所述的正面金屬電極106是在濺射al之后刻蝕形成。具體的，包括以下操作：1)以在n+摻雜硅材料作為襯底107，在其上通過化學氣相淀積或光學鍍膜生成厚度3～5um的高反層109；其中。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。其產品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發射管、發光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關、光電編碼器、紙張感應器和光電耦合器等。經過十余年的發展。福州硅pin硅光電二極管多少錢探索無線可能，世華高硅光電二極管攜手暢享智能體驗。

結構簡單易于實現，不改變原有設備的主要結構，只增加少量部件和對控制程序的改造，改造費用增加很少，以很少的設備投資，既減少了產品生產過程中氮氣使用成本，又提高了系統的可靠性；本真空焊接系統通過電磁鐵和磁環進行磁性連接，可有效提升石英玻璃罩與下固定板之間的密封性能，以保證生產產品的品質，從而提高真空焊接系統的實用性。附圖說明圖1為本實用新型正面結構示意圖。圖2為本實用新型下固定板的結構示意圖。圖3為本實用新型模塊圖。圖中：1、石英玻璃罩；2、上密封圈；3、上固定板；4、plc控制器；5、下密封圈；6、電磁鐵；7、下固定板；8、耐高溫傳輸管道；9、真空電磁閥；10、微型真空泵；11、氮氣電磁閥；12、氮氣充氣泵；13、溫度檢測儀；14、熔深檢測儀；15、卡槽；16、感應線圈；17、磁環。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-3。

設置靜電紡絲工藝參數：注射器推進速度3mm/h，紡絲電壓12kv，接收距離10cm，滾筒轉速300r/min，在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復合纖維，150℃烘箱中干燥過夜，烘干后置于650℃馬弗爐中煅燒2h，熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極；配制30ml濃度為4mmol/l硝酸鋅、4mmol/l碲酸鈉和，攪拌均勻，轉入50ml水熱反應釜中；將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應釜內，fto導電面朝下，密封水熱反應釜，置于恒溫干燥箱中，150℃水熱反應6h；反應結束，取出fto電極，水洗3次，60℃下真空干燥8h；干燥后，將薄膜放入管式爐內，氮氣保護條件下煅燒，控制煅燒溫度為300℃，煅燒時間為3h，即可得sr摻雜batio3/znte光電極。將上述sr摻雜batio3/znte工作電極放入光電化學反應器內，與鉑片對電極組裝成兩電極體系，將該電極在+10v下()極化200s，所用溶液為碳酸丙烯酯，用去離子水清洗后，將光電極在真空條件下50℃干燥10h。之后。深圳市世華高半導體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設在深圳，主要負責研發和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區作為生產基地，負責光電器件的制造。硅光電二極管電路圖就找世華高！

世華高半導體已成為一家先進的半導體器件制造商。公司在全球范圍內設有多個銷售機構，分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區。并通過型號為suk2n-1412mr/mt的plc控制器4開啟型號為vton的氮氣電磁閥11和型號為sast的氮氣充氣泵12，向石英玻璃罩1內部充入小流量氮氣對高壓二極管硅疊進行冷卻和保護，溫度下降到一定值時，取出被焊接高壓二極管硅疊，本真空焊接系統設計合理，結構簡單易于實現，不改變原有設備的主要結構，只增加少量部件和對控制程序的改造，改造費用增加很少，以很少的設備投資，既減少了產品生產過程中氮氣使用成本，又提高了系統的可靠性。在本實用新型的描述中，需要理解的是，指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。在本實用新型中，除非另有明確的規定和限定，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。硅光電二極管參數哪家好！世華高好。珠海國產硅光電二極管品牌

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本發明具有以下有益的技術效果：本發明提供的高速高響應度的硅基光電二極管，通過適當減小耗盡區寬度和減小擴散區電阻率，耗盡區寬度減小導致響應度的降低，本發明通過增加高反層使得光子在耗盡區中二次吸收來補償；高反層的形成使得器件保持對長波響應度的同時，降低響應時間；由于擴散區(耗盡區以外的區域)材料電阻率很低，擴散區阻抗很小，因此擴散時間很短；從而實現硅基光電二極管高響應度與高響應速度同時提升。本發明提供的高速高響應度的硅基光電二極管，由于通過低阻材料降低了擴散區電阻，縮短了擴散時間；而高反層的設置提高了長波的吸收效率，降低了耗盡區的物理厚度，縮短了漂移時間，并且在其上開孔減小了擴散區的阻抗；襯底采用低電阻率材料，背面不用進行減薄注入，直接背面金屬化形成背面電極，避免了加工過程中碎片的情況。附圖說明圖1為本發明的結構圖示意圖；圖2為本發明的等效電路示意圖；圖3為本發明的高反層原理示意圖；圖4為多孔結構高反層的示意圖；圖5-1～圖5-7分別為本發明的逐層制備示意圖。圖6為本發明的硅基光電二極管的響應度測試曲線；圖7為本發明的硅基光電二極管的頻率特性測試曲線。杭州光電硅光電二極管特性