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灰度光刻基本參數(shù)
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型號
  • 齊全
  • 類型
  • 雙光子微納光刻系統(tǒng)
  • 規(guī)格
  • QuantumX
  • 廠家
  • Nanoscribe
  • 產(chǎn)地
  • 德國
灰度光刻企業(yè)商機

將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度特別高。    Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。灰度光刻技術(shù)采用圖像處理的方法。廣東進口灰度光刻

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   Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,擁有卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,推動著諸如力學超材料,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),在充分滿足設(shè)計自由的同時,一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,達到所見即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機。山東進口灰度光刻3D光刻歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)。

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  雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。制備各種復雜的微納米結(jié)構(gòu),滿足不同應用領(lǐng)域的需求。

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這種設(shè)計策略不僅可用于改進現(xiàn)有的傳感器,該項目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設(shè)計中,研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個微型轉(zhuǎn)子。從轉(zhuǎn)子上反射出的光脈沖可以被讀取,因此該傳感器可以被用于分析流速。

FabryPérot傳感器進行溫度和折射率感應的測試裝置圖。圖片:資料來源見本文下方。通過動態(tài)可旋轉(zhuǎn)的3D微納加工概念,研究人員展示了智能設(shè)計如何改進現(xiàn)有的傳感器,并為整個新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。 灰度光刻技術(shù)可實現(xiàn)掩膜版的自適應優(yōu)化。江蘇2GL灰度光刻設(shè)備

灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合。廣東進口灰度光刻

Quantum X shape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。廣東進口灰度光刻

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