雙光子灰度光刻技術3Dprintingby2GL®是?種基于2PP的全新三維微加工技術。該技術將2PP的高精度和資質體素調節技術相結合，極大減少了打印層數，使2GL成為基于2PP原理的快速的為尺度3D打印技術。該技術在兼顧優越形狀精度和打印質量的同時可實現?速打印。灰度光刻3D打印技術作為對準雙光子光刻技術的重要補充，可實現直接在光纖末端和光子芯片上打印自由形狀的微光學元件，并實現自動納米級對準。歡迎您的隨時咨詢，我們為您提供專業的方案~

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統的應用。吉林工業級灰度光刻3D微納加工

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。吉林灰度光刻3D打印灰度光刻技術可以實現高分辨率的微納米結構制造。

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。

QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。雙光子灰度光刻（2GL ?）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創作工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司雙光子灰度光刻技術3D printing by 2GL?是?種基于2PP的 全新三維微加工技術。吉林灰度光刻3D打印

制備各種復雜的微納米結構，滿足不同應用領域的需求。吉林工業級灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。。吉林工業級灰度光刻3D微納加工