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灰度光刻基本參數
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型號
  • 齊全
  • 類型
  • 雙光子微納光刻系統
  • 規格
  • QuantumX
  • 廠家
  • Nanoscribe
  • 產地
  • 德國
灰度光刻企業商機

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統。Nanoscribe灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe灰度光刻3D微納加工,灰度光刻

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL ®)系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。上海2GL灰度光刻系統雙光子灰度光刻技術將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合。

Nanoscribe灰度光刻3D微納加工,灰度光刻

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業生產上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。

作為歐盟光子計算項目PHOENICS(2020Horizont歐盟地平線科研項目)的成員,Nanoscribe攜手德國明斯特大學,與全球光子計算領域的翹楚一起,展開了為期四年的科研項目,以實現超高寬帶的高能效千兆計算處理能力,用于新一代人工智能(AI)應用的計算平臺。Nanoscribe將為光子封裝技術開發新的硬件和軟件解決方案。各種不同光子平臺都有著不同類型的光子耦合接口,而這正是光子封裝系統工業化的主要困難和挑戰。雙光子無掩模光刻系統QuantumX作為硬件載體框架,并計劃建立一個先進的平臺,成為下一代光子封裝技術的行業榜樣。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您探討灰度光刻技術的用途和特點。

Nanoscribe灰度光刻3D微納加工,灰度光刻

Nanoscribe的Quantum X打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。想要了解灰度光刻技術的運用,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。北京灰度光刻三維光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細講解灰度光刻技術。Nanoscribe灰度光刻3D微納加工

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統,雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe灰度光刻3D微納加工

納糯三維科技(上海)有限公司是一家有著雄厚實力背景、信譽可靠、勵精圖治、展望未來、有夢想有目標,有組織有體系的公司,堅持于帶領員工在未來的道路上大放光明,攜手共畫藍圖,在上海市等地區的儀器儀表行業中積累了大批忠誠的客戶粉絲源,也收獲了良好的用戶口碑,為公司的發展奠定的良好的行業基礎,也希望未來公司能成為行業的翹楚,努力為行業領域的發展奉獻出自己的一份力量,我們相信精益求精的工作態度和不斷的完善創新理念以及自強不息,斗志昂揚的的企業精神將引領納糯三維科技供應和您一起攜手步入輝煌,共創佳績,一直以來,公司貫徹執行科學管理、創新發展、誠實守信的方針,員工精誠努力,協同奮取,以品質、服務來贏得市場,我們一直在路上!

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