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灰度光刻基本參數
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型號
  • 齊全
  • 類型
  • 雙光子微納光刻系統
  • 規格
  • QuantumX
  • 廠家
  • Nanoscribe
  • 產地
  • 德國
灰度光刻企業商機

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您介紹Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統。廣東進口灰度光刻技術

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Nanoscribe的Quantum X打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。山東高精度灰度光刻技術3D打印Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解目前灰度光刻的發展。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創造工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”(CMM)。Photonic Professional GT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。另外,還可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統的應用。

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這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產品,名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學研究還是制作工業手板,這款產品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應用領域,極大地節省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學研究或工業生產中得到更好的效果,3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節省時間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購買,體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧!了解雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。湖北高精度灰度光刻微納加工系統

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ?)可用于工業領域2.5D微納米結構原型母版制作。廣東進口灰度光刻技術

   Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創始人開發出一種技術,對智能手機、手持設備和醫療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發創新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標記系統基于雙光子吸收,這是一種分子被激發到更高能態的過程。廣東進口灰度光刻技術

納糯三維科技(上海)有限公司是一家集研發、生產、咨詢、規劃、銷售、服務于一體的生產型企業。公司成立于2017-11-08,多年來在PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統行業形成了成熟、可靠的研發、生產體系。主要經營PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統等產品服務,現在公司擁有一支經驗豐富的研發設計團隊,對于產品研發和生產要求極為嚴格,完全按照行業標準研發和生產。Nanoscribe為用戶提供真誠、貼心的售前、售后服務,產品價格實惠。公司秉承為社會做貢獻、為用戶做服務的經營理念,致力向社會和用戶提供滿意的產品和服務。納糯三維科技(上海)有限公司嚴格規范PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統產品管理流程,確保公司產品質量的可控可靠。公司擁有銷售/售后服務團隊,分工明細,服務貼心,為廣大用戶提供滿意的服務。

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