雙光子聚合3D打印技術的發展也面臨一些挑戰。首先，材料選擇和性能仍然是一個問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術發展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術比傳統技術更快，但仍然需要進一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術的不斷進步和創新，雙光子聚合3D打印技術有望在未來取得更大的突破。科研人員正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質量和效率。同時，企業也加大了對該技術的支持和投入，推動其在各個領域的應用。雙光子聚合3D打印技術是一項具有巨大潛力的創新科技。它將為制造業帶來的變革，推動產品設計和制造的發展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術將成為制造業的主流技術，為我們帶來更加美好的未來。Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內在雙光子聚合技術領域的進展。黑龍江德國雙光子聚合

   雙光子聚合技術(2PP)是一種“納米光學”3D打印方法，類似于光固化快速成型技術，未來學家ChristopherBarnatt認為這種技術未來可能會成為主流3D打印形式。國際上，維也納科技大學的科學家們一致致力于提高感光性樹脂性能和成像技術。而英國帝國理工學院還通過德國的Nanoscribe設備打印出只有100微米長的中國長城模型贈送給我們國家。NanoScribe這樣的雙光子聚合技術潛在的應用范圍和影響力是很特殊的。其應用領域包括：光子學(Photonics):光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(DFBLasers)光子共振環、繞射光學微光子學(MicroOptics):微光學器件、整合型光學微流道技術(MicroFluidics):生醫芯片系統、物質研究開發與分析、三維基礎結構與微流道通路生命科學(LifeSciences):細胞外數組結構、干細胞分離術、細胞成長研究、細胞遷移研究、組織工程納米與微米工藝(Nano-andMicrotechnology):超細分辨率光學掩膜、壁虎與蓮花效應分析黑龍江德國雙光子聚合雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術。

雙光子聚合是物質在發生雙光子吸收后所引發的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發生，是一種強激光下光與物質相互作用的現象，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發生主要在脈沖激光所產生的特別強激光的焦點處，光路上其他地方的激光強度不足以產生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應的單光子過程不能發生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點，在三維微加工、高密度光儲存及生物醫療領域有著巨大的應用前景，近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統，非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討國內在雙光子聚合技術領域的未來發展。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。

雙光子聚合可以通過控制激光的光強和聚焦位置來實現加工的精度和形狀，表現出很強的可控性。浙江德國雙光子聚合

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶你了解雙光子聚合技術及其應用前景。黑龍江德國雙光子聚合

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。黑龍江德國雙光子聚合