雙光子聚合是物質在發生雙光子吸收后所引發的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程,只能在強激光作用下發生,是一種強激光下光與物質相互作用的現象,屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發生主要在脈沖激光所產生的特別強激光的焦點處,光路上其他地方的激光強度不足以產生雙光子吸收,而由于所用光波長較長,能量較低,相應的單光子過程不能發生,因此,雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點,在三維微加工、高密度光儲存及生物醫療領域有著巨大的應用前景,近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的。卡爾斯魯厄納米雙光子聚合技術
Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。卡爾斯魯厄微納米雙光子聚合技術3D打印Quantum X是全球基于雙光子灰度光刻技術的工業級微納加工設備(2GL@).
加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅和市場領導我們是您在微加工系統、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司,是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩定的系統、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案,我們的3000多名系統用戶正在致力于研究改變未來的應用。Nanoscribe的用戶群體中,有科學研究和工業的創新者,包括生命科學、微光學、光子學、材料工程、微流體、微力學和MEMS。他們優越的創新現已發表在1300多份同行評議期刊上。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現球形,非球形,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質量表面和形狀精度。
科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續復制工作。
由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化。黑龍江微納米雙光子聚合
雙光子聚合微納加工系統利用飛秒激光雙光子聚合技術可以深入透明材料內部。卡爾斯魯厄納米雙光子聚合技術
對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合(2PP)的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上,例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統還可以識別基準點或拓撲基底特征,確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統的標配。卡爾斯魯厄納米雙光子聚合技術