氮化鋁陶瓷的制備技術:壓制成形的三個階段:一階段,主要是顆粒的滑動和重排,無論是一般的粉體或者造粒后的粉體,其填充于模具中的很初結構中都含有和顆粒尺寸接近或稍小的空隙。第二階段,顆粒接觸點部位發生變形和破裂,當壓力超過顆粒料的表觀屈服應力時,顆粒發生變形使得顆粒間空隙減小,隨著顆粒的變形,坯體體積很大空隙尺寸減少,塑性低的致密粒料對應的屈服應力大,達到相同致密度所需要更高的壓力。第三階段,坯體進一步密實與彈性壓縮,這一階段起始于高壓力階段,但密度提高幅度較小,此階段發生一定程度的彈性壓縮,這種彈性壓縮過大,則在脫模后會造成應力開裂與分層。模壓成型的優點是成型坯體尺寸準確、操作簡單、模壓坯體中粘結劑含量較少、干燥和燒成收縮較小,特別適用于制備形狀簡單、長徑比小的制品。但是,這種傳統的成型方法效率低,且制得的AlN陶瓷零部件的尺寸精度取決于所用模具的精度,而高精度模具的制備成本較高。氮化鋁防導熱性好,熱膨脹系數小,是良好的耐熱沖擊材料。麗水單晶氮化鋁粉體品牌
AlN陶瓷金屬化的方法主要有:薄膜金屬化(如Ti/Pd/Au)、厚膜金屬化(低溫金屬化、高溫金屬化)、化學鍍金屬化(如Ni)、直接覆銅法(DBC)及激光金屬化。薄膜金屬化法采用濺射鍍膜等真空鍍膜法使膜材料和基板結合在一起,通常在多層結構基板中,基板內部金屬和表層金屬不盡相同,陶瓷基板相接觸的薄膜金屬應該具有反應性好、與基板結合力強的特性,表面金屬層多選擇電導率高、不易氧化的金屬。由于是氣相沉積,原則上任何金屬都可以成膜,任何基板都可以金屬化,而且沉積的金屬層均勻,結合強度高。但薄膜金屬化需要后續圖形化工藝實現金屬引線的圖形制備,成本較高。溫州導熱氮化硼廠家粘結劑是氮化鋁陶瓷粉末的載體,決定了喂料注射成形的流變性能和注射性能。
流延成型的體系,有機流延體系和水基流延體系。有機流延體系所用到的添加劑的成分均有毒,對綠色生產提出了很大的挑戰。近年來,研究者一直致力于尋找添加劑毒性小的流延成型方法。郭堅等以無水乙醇和異丙醇為混合溶劑,利用流延成型制備AlN生坯,燒結后得到AlN陶瓷的熱導率為178 W/(m·K)。水基流延體系因為其綠色環保等特點,成為流延成型發展趨勢。但其在成型后需要對陶瓷生坯進行干燥,目前干燥技術還有待進一步完善。相對而言,流延成型的生產效率高,產品質量高,但此種方法存在的局限性是只能成型簡單外形的陶瓷生坯,無法滿足復雜外形的陶瓷生坯成型要求。近年來,隨著微電子技術的飛速發展,大規模集成電路和大功率微波器件對高尺寸精度的異形封裝和散熱器件的需求正在每年成倍增加,因而需要越來越多的微型、復雜形狀高導熱AlN陶瓷零部件,但是傳統的加工方法很難制備出形狀和尺寸精度滿足需要的零部件。于是,另一種成型方法——粉末注射成型獲得越來越多的關注。
氮化鋁(AlN)陶瓷作為一種新型的電子器件封裝基板材料,具有熱導率高、強度高、熱膨脹系數低、介電損耗小、耐高溫及化學腐蝕,絕緣性好,而且無毒環保等優良性能,是被國內外一致看好很具有發展前景的陶瓷材料之一。作為一種非常適合用于高功率、高引線和大尺寸芯片封裝基板材料,氮化鋁陶瓷基板的熱導率一直是行業內關注研究的難題,目前商用氮化鋁基板的熱導率距離其理論熱導率還有很大的差距,因此,在降低氮化鋁陶瓷燒結溫度的同時研制出更高熱導率的氮化鋁陶瓷基板,對于電子器件的快速發展有著重大意義。要想制備出熱導率更高的氮化鋁基板,就要從其導熱原理出發,探究究竟哪些因素影響了熱導率。氮化鋁(AIN)是AI-N二元系中穩定的相,它具有共價鍵、六方纖鋅礦結構。
AlN陶瓷基片一般采用無壓燒結,該燒結方法是一種很普通的燒結,雖然工藝簡單、成本較低、可制備形狀復雜,但燒結溫度一般偏高,再不添加燒結助劑的情況下,一般無法制備高性能陶瓷基片。傳統燒結方式一般通過外部熱源對AlN坯體進行加熱,熱傳導不均且速度較慢,將影響燒結質量。微波燒結通過坯體吸收微波能量從而進行自身加熱,加熱過程是在整個材料內部同時進行,升溫速度快,溫度分散均勻,防止AlN陶瓷晶粒的過度生長。這種快速燒結技術能充分發揮亞微米級和納米級粉末的性能,具有很強的發展前景。放電等離子燒結技術主要利用放電脈沖壓力、脈沖能和焦耳熱產生瞬間高溫場實現快速燒結。放電等離子燒結技術的主要特點是升溫速度快,燒結時間短,燒結溫度低,可實現AlN陶瓷的快速低溫燒結。通過該燒結方法,燒結體的各個顆粒可類似于微波燒結那樣均勻地自身發熱以活化顆粒表面,可在短時間內得到致密化、高熱導燒結體。由于鋁和氮的原子序數小,氮化鋁本身具有很高的熱導率。溫州導熱氮化硼廠家
關于氮化鋁的導熱機理,國內外已做了大量的研究,并已形成了較為完善的理論體系。麗水單晶氮化鋁粉體品牌
陶瓷基板是指銅箔在高溫下直接鍵合到陶瓷基片表面(單面或雙面)上的特殊工藝板。氮化鋁陶瓷基板是以氮化鋁陶瓷為主要原材料制造而成的基板。氮化鋁陶瓷基板作為一種新型陶瓷基板,具有導熱效率高、力學性能好、耐腐蝕、電性能優、可焊接等特點,是理想的大規模集成電路散熱基板和封裝材料。近年來,隨著我國電子信息行業的快速發展,市場對陶瓷基板的性能要求不斷提升,氮化鋁陶瓷基板憑借其優異的特征,其應用范圍不斷擴展。氮化鋁陶瓷基板應用領域較廣,涉及到汽車電子、光電通信、航空航天、消費電子、LED、軌道交通、新能源等多個領域,但受生產工藝、技術水平、市場價格等因素的影響,目前我國氮化鋁陶瓷基板應用范圍仍較窄,主要應用在制造業領域。相比與氧化鋁陶瓷基板,氮化鋁陶瓷基板性能優異,隨著市場對基板性能的要求不斷提升,未來我國氮化鋁陶瓷基板行業發展空間廣闊。麗水單晶氮化鋁粉體品牌
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