ITO顯影劑也稱為造影劑或對比劑,是一種X光無法穿透的藥劑,用于讓體內組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時,醫師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液(大多含鋇),然后用各種角度照相,就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產生游離銀,而對底片不做進一步處理,則把它一拿出暗室,未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后,幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題,必須找到一種適當的物質以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子(S2O32-)與銀離子形成可溶于水的穩定配合物,因而達到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業的快速發展而不斷增長。蝕刻液使用時要注意什么?京東方用的蝕刻液蝕刻液
鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據查詢相關信息顯示:鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設計的化學品,STM-AL100的組成有主要蝕刻化學品,添加劑,輔助化學品,對于控制蝕刻均勻以及穩定的蝕刻速率一定的效果,在長效性的表現上更是無話可說.在化學特性上,鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學品攻擊,本化學品設計上為酸性配方且完全可被水溶解,故無須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產的用途可以調整藥液溫度來調整蝕刻速率,所以本化學品對于初次使用者來說,是簡單容易上手。合肥京東方用的蝕刻液蝕刻液溶劑ITO蝕刻液的配方是什么?
當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現象,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復數個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經由該復數個宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實施說明可知,本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備與現有技術相較之下,本實用新型具有以下優點。本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備主要借由具有復數個宣泄孔的擋液板結構搭配風刀裝置的硬體設計,有效使風刀裝置吹出的氣體得以經由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異常現象。
將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應的原料罐,備用;第三步:根據混酸配制表算出各個原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調配罐,將上述混料充分攪拌,攪拌時間為3~5h;第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續攪拌混勻,攪拌時間為3~5h,用磁力泵將混合液通過過濾器循環過濾。作為推薦的技術方案,所述磁力泵出口壓力≤,過濾器入口壓力≤。根據制備銅蝕刻液的原料確定磁力泵的出口壓力和過濾器的入口壓力,包裝原料可以被充分過濾。作為推薦的技術方案,所述調配罐內的溫度設定在30~35℃。調配罐的溫度不能超過35℃,由于過氧化氫的密度隨溫度的升高而減小,因此保證交底的反應溫度有助于保證原料體系的穩定作為推薦的技術方案,所述過濾器的微濾膜孔徑為~μm。作為推薦的技術方案,第三步中各種原料在~,調配罐內填充氮氣,攪拌速度為30~50r/min。作為推薦的技術方案,原料罐和調配罐大拼配量不超過罐容積的80%。本發明的優點和有益效果在于:本發明在制備酸性銅蝕刻液的過程中,用低溫純水(10℃)替代常溫純水(25℃),將低溫純水加入反應體系中,降低反應體系的反應溫度。哪家蝕刻液質量比較好一點?
銅蝕刻液適用于印制版銅的蝕刻,蝕刻速度快。蝕刻速度達4~5um/min。廢液回收簡單,用于印制板,線路板。本劑也可用于銅工藝品等的蝕刻。蝕刻后的板面平整而光亮。銅蝕刻液的反應速度快、使用溫度低、溶液使用壽命長,后處理容易,對環境污染小。用于銅質單面板,雙面板、首飾蝕刻,可以蝕刻出任意精美的形態,有效提高蝕刻速度,節約人工水電。常常應用于印刷線路板銅的蝕刻處理
1、蝕刻速度快,效率高。使用方便。蝕刻速度可達10微米/分鐘。2、可循環使用,無廢液排放。
1、藍色透明液體,有氣味。2、比重:1.10~1.13。3、PH值:10~11.0。
1、采用浸泡的方法即可,浸泡過程中要攪動蝕刻液或移動工件。蝕刻溫度為20~40℃,在通風排氣處操作,操作時要蓋好蓋子。2、蝕刻時間可以根據蝕刻的深度確定。 哪家蝕刻液的的性價比好。BOE蝕刻液蝕刻液推薦貨源
什么制程中需要使用蝕刻液。京東方用的蝕刻液蝕刻液
以及一設置于基板下方的第二風刀,其中***風刀與第二風刀分別吹出一氣體至基板。如上所述的蝕刻設備,其中蝕刻設備可進一步設置有一噴灑裝置,噴灑裝置相對于風刀裝置一端而設置于擋液板結構的另一端部。如上所述的蝕刻設備,其中噴灑裝置噴灑一藥液至基板上。如上所述的蝕刻設備,其中擋液板結構與基板的垂直距離介于8mm至15mm之間。如上所述的蝕刻設備,其中滾輪呈順時針方向轉動,并帶動基板由噴灑裝置下端部朝向風刀裝置的***風刀下端部的方向移動。如上所述的蝕刻設備,其中氣體遠離***風刀與第二風刀的方向分別與基板的法線方向夾設有一第三夾角。如上所述的蝕刻設備,其中第三夾角介于20度至35度之間。再者,為了達到上述實施目的,本實用新型另研擬一種蝕刻方法,于一濕式蝕刻機的一槽體內運行;首先,設置一擋液板結構,其中擋液板結構設置有復數個宣泄孔;接著,使用一設置于擋液板結構下方的輸送裝置輸送一基板,以經過一噴灑裝置進行一藥液噴灑;接續,使用一設置于擋液板結構下方的風刀裝置對基板吹出一氣體,以使基板干燥;***,氣體經由宣泄孔宣泄。如上所述的蝕刻方法。京東方用的蝕刻液蝕刻液