腔室10及過濾器30可以采用與現有技術相同的設計。處于剝離制程中的玻璃基板,按照玻璃基板傳送方向從當前腔室101開始逐級由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進行剝離制程。剝離液從當前腔室101進入相應的存儲箱20,在剝離液的水平面超過預設高度后流入過濾器30,再經過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級腔室102內。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第二種結構示意圖。閥門開關60設置在***管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時,關閉位于過濾器30兩側的***管道40及第二管道50上的閥門開關60,可以保證當前級腔室101對應的存儲箱20內剝離液不會流出,同時下一級腔室102內的剝離液也不會流出。在一些實施例中,請參閱圖3,圖3為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第三種結構示意圖。過濾器30包括多個并列排布的子過濾器301,所述***管道40包括多個***子管道401,每一所述***子管道401與一子過濾器301連通,且所述多個***子管道401與當前級腔室101對應的存儲箱20連通。在一些實施例中,第二管道50包括公共子管道501及多個第二子管道502,每一所述第二子管道502與一子過濾器301連通。剝離液公司的聯系方式。上海格林達剝離液哪里買
隨著國內電子制造產業(yè)和光電產業(yè)的迅速發(fā)展,光刻膠剝離液等電子化學品的使用量也大為増加。特別是縱觀近幾年度的光電行業(yè),風靡全球的智能手持設備、移動終端等簡直成為了光電行業(yè)的風向標:與之相關的光電領域得到了飛速的發(fā)展,鏡頭模組、濾光片、LTPS液晶顯示面板、觸摸屏幕、傳感器件等等。而光電行業(yè)的其他領域,雖然也有增長,但是遠不及與智能手持設備相關的光電領域。工業(yè)上所使用的剝離液主要是有機胺和極性有機溶劑的組合物,通過溶脹和溶解方式剝離除去光刻膠。上述有機胺可包括單乙醇胺(MEA),二甲基乙酰胺(DMAC), N-甲基甲酰胺(NMF),N-甲基ニ乙醇胺(MDEA)等。上述極性有機溶劑可包括二乙二醇甲醚(DGME),二乙二醇單丁醚(BDG),二甲亞砜(DMS0),羥乙基哌嗪(NEP)等。由于LCD液晶屏具有體積小、質量輕、清晰度高、圖像色彩好等優(yōu)點,被廣泛應用于工業(yè)生產中,按目前使用的液晶電視、電腦顯示屏等生命周期為6-8年計算,未來隨著年代的更替,LCD的生產量液將會增加,從而導致剝離液的使用量也大量增加,剝離液大量使用的同時也產生大量剝離液廢液。剝離液廢液中除了含有少量高分子樹脂和光敏劑外,南通ITO蝕刻液剝離液價格如何挑選一款適合自己公司的剝離液?
能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定,例如,可以舉出在設為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說明的是,浸漬時,可以搖動基材,或對本發(fā)明剝離液施加超聲波。抗蝕劑的種類沒有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會社制)等。施加抗蝕劑的基材沒有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導體基板、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導體基板、平板顯示器、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒有特別限定。
用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:有少量殘渣4:基本能剝離,但一部分殘渣多5:一半以上能剝離,但一部分殘渣多6:基本不能剝離,但一部分剝離7:不能剝離【表2】由該結果可知,在含有溶纖劑的抗蝕劑的剝離液中使用氫氧化鉀代替氫氧化鈉的本發(fā)明組成,與使用氫氧化鈉的比較組成相比,即使l/s狹窄,也能除去抗蝕劑。(3)剝離性能的評價方法將液溫設為50℃的各剝離液使用噴涂裝置向上述試驗片實施剝離處理,將試驗片的粘性部分的dfr以目視全部面積的90%以上被剝離的時刻作為剝離時間。另外,剝離片尺寸(長邊)是采集噴涂停止后附著于設置于試驗基板固定用的臺上的排渣用網眼的剝離片以目視實施的。此時的噴涂裝置的條件設為全錐噴嘴且流量5l/min、壓力。將其結果示于表3。(4)金屬的浸蝕性的評價方法利用上述評價方法實施將噴涂運行時間固定在10分鐘的處理。其后,將基板的鍍銅部位通過電子顯微鏡(日立高新技術制:s-3400n)按照以下的評價基準評價表面形狀。其結果也示于表3。<金屬浸蝕性的評價基準>(分數)(內容)1:沒有變化2:極略微有變化(用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:略有變化4:發(fā)生***變色【表3】剝離時間(sec)剝離片尺寸。哪家的剝離液價格比較低?
光電行業(yè)的大力發(fā)展,致使剝離液被國內外研究人員所關注及研究,雖然在**網及技術網上對剝離液的闡述較少,但當前國內與國外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果,。美國專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和。現有技術***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發(fā)器回收大部分的有機成分,回收得到的有機組分或再經脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應用。這種方法雖然流程簡便,但在使用薄膜蒸發(fā)器蒸發(fā)溶劑過程中,光刻膠濃度達到一定程度后其傳熱傳質效率快速下降,使溶劑回收效率大為降低,處理能耗***升高。且除去溶劑后殘留的光刻膠等物質需要定期將其***干凈,進而影響工藝操作效率。另外,美國專利US公布了在蝕刻產線上設置過濾回收裝置,通過粗孔和細孔過濾器的兩步組合過濾法除去光刻膠,將光刻膠剝離液在產線上循環(huán)使用。 如何挑選一款適合公司的剝離液?紹興ITO蝕刻液剝離液推薦廠家
剝離液應用于什么樣的場合?上海格林達剝離液哪里買
具體實施方式現有技術中剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質,而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收,其大量的使用但不能夠有效地回收,或者回收后需要通過大量的時間分析其含量以及花大量時間進行再生處理,影響了剝離液廢液的利用率。本發(fā)明對于已知的剝離液的含量以及比例有預先的了解,通過預先制定添加劑的方法,將添加劑以及某些原材料加入后重新制備剝離液新液。本發(fā)明中對于回收的剝離液廢液的進一步處理加工,是采用現有技術中加壓、蒸餾等方式,可以是采用階段性變壓精餾塔進行加壓、蒸餾處理。表1:已知的剝離液新液的組分:表二:添加劑的組分組分比例:純化液體的組分表四:制備剝離液新液在對純化液體進行加工處理,重新制備剝離液新液的過程中,需要預先制備添加劑,該添加劑中不含有酰胺化合物,而通過表四中可以得出,制備過程中在純化液體中加入添加劑以及nmf或bdg重新得出與表1組分相同的剝離液新液,該剝離液新液能夠達到表1中剝離液新液相同的成分以及相同或大致相同的技術效果。對所公開的實施例的上述說明,使本領域專業(yè)技術人員能夠實現或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領域的專業(yè)技術人員來說將是顯而易見的。上海格林達剝離液哪里買
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