隨著電子元器件制作要求的提高,相關行業應用對濕電子化學品純度的要求也不斷提高。為了適應電子信息產業微處理工藝技術水平不斷提高的趨勢,并規范世界超凈高純試劑的標準,國際半導體設備與材料組織(SEMI)將濕電子化學品按金屬雜質、控制粒徑、顆粒個數和應用范圍等指標制定國際等級分類標準。濕電子化學品在各應用領域的產品標準有所不同,光伏太陽能電池領域一般只需要G1級水平;平板顯示和LED領域對濕電子化學品的等級要求為G2、G3水平;半導體領域中,集成電路用濕電子化學品的純度要求較高,基本集中在G3、G4水平,分立器件對濕電子化學品純度的要求低于集成電路,基本集中在G2級水平。一般認為,產生集成電路斷絲、短路等物理性故障的雜質分子大小為**小線寬的1/10。因此隨著集成電路電線寬的尺寸減少,對工藝中所需的濕電子化學品純度的要求也不斷提高。從技術趨勢上看,滿足納米級集成電路加工需求是超凈高純試劑今后發展方向之一。剝離液的特性是什么?滁州江化微的蝕刻液剝離液訂做價格
本發明涉及剝離液技術領域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術::電子行業飛速發展,光刻膠應用也越來越。在半導體元器件制造過程中,經過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任何基材,才能再進行下道工序。因此,光刻膠的剝離質量也有直接影響著產品的質量。但是傳統光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術實現要素:本發明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實現上述目的,本發明采用如下技術方案:本申請公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤濕劑:%%。的技術方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術方案中。深圳ITO蝕刻液剝離液銷售廠家哪家剝離液的的性價比好。
所述的鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種。技術方案中,所述的環胺為氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種。技術方案中,所述的緩蝕劑為三唑類物質。的技術方案中,所述的緩蝕劑為苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一種。技術方案中,所述的潤濕劑含有羥基。技術方案中,所述的潤濕劑為聚乙二醇、甘油中的任意一種。經由上述的技術方案可知,與現有技術相比,本發明具有以下有益效果:本發明中加入環胺與鏈胺,能夠滲透、斷開光刻膠分子間弱結合力,能夠快速、有效地溶解光刻膠,而配方中加入潤濕劑,能夠有效地減少接觸角,增強親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。附圖說明:圖1為配方一和配方二的剝離液滴落在平面時兩者的接觸角對比圖。圖2為配方一和配方二的剝離液應用是光刻膠的殘留量對比圖。具體實施方式現有技術中的剝離液其水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留,本申請經過大量的試驗,創造性的發現,在剝離液中加入潤濕劑,能夠使固體物料(高世代面板)更易被水浸濕的物質,通過降低其表面張力或界面張力,使水能展開在固體物料。
從而可以在閥門開關60關閉后取下被阻塞的過濾器30進行清理并不會導致之后的下一級腔室102的剝離進程無法繼續。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級向玻璃基板分別提供剝離液;與多個腔室10分別對應連接的多個存儲箱20,各級腔室10分別通過管道與相應的存儲箱20連接,存儲箱20用于收集和存儲來自當前級腔室101的經歷剝離制程的剝離液;過濾器30用于過濾來自當前級腔室101的存儲箱20的剝離液,并且過濾器30還可以通過管道與下一級腔室102連接,從而過濾器30可以將過濾后的剝離液輸送給下一級腔室102。各腔室10設計為適合進行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結構可參考現有設計在此不再贅述。各級腔室10分別于相應的存儲箱20通過管道連接,腔室10中經歷剝離制程后的剝離液可以經管道輸送至存儲箱20中,由存儲箱20來收集和存儲。各級腔室10的存儲箱20分別與相應的過濾器30通過管道連接,經存儲箱20處理后的剝離液再經相應的過濾器30過濾后才經管道輸送至下一級腔室102。本申請中,腔室10及過濾器30可以采用與現有技術相同的設計。處于剝離制程中的玻璃基板。哪家的剝離液的價格低?
所述功能切換口外部并聯有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線,所述二級過濾罐的底部設有廢液出口,所述一級過濾罐和二級過濾罐內部均懸設有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置,所述一級過濾罐和二級過濾罐的結構相同,均由外殼、懸設于外殼內的過濾筒、扣裝于過濾筒頂部的壓蓋組成,所述壓蓋中心設有對應進料管路的通孔,所述過濾筒由均勻布設多孔的支撐筒體、設于支撐筒體內表面的金屬濾網、設于金屬濾網表面的纖維濾布組成,所述支撐筒體的上沿伸出外殼頂部并利用水平翻邊支撐于外殼上表面,所述金屬濾網的上沿設有與支撐筒體的水平翻邊扣合的定位翻邊,所述支撐筒體的底面為向筒體內側凹陷的錐面。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置,所述攪拌釜設有ph計,用于檢測溶液ph值。本實用新型的有益效果是:使用時,先將高純水與光刻膠廢剝離液在攪拌釜內攪拌均勻,形成固液混合物,打開一級過濾罐進料管路上的電磁閥,固液混合物進入一級過濾罐的過濾筒中,先由一級過濾罐的過濾筒過濾得到一級線性酚醛樹脂,濾液由提升泵送往攪拌釜的循環料口,往復設定次數后,一級線性酚醛樹脂回收完成,關閉一級過濾罐進料管路上的電磁閥。哪家剝離液質量比較好一點?嘉興中芯國際用剝離液報價
博洋剝離液供應廠商-提供微電子領域個性化解決方案!滁州江化微的蝕刻液剝離液訂做價格
本申請涉及半導體工藝技術領域,具體涉及一種剝離液機臺及其工作方法。背景技術:剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時,沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實現兩次光刻合并為一次以達到光罩縮減的目的?,F有技術中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會導致剝離液機臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導致機臺無法使用,并且需要停止所有剝離液機臺的工作,待將filter清理后再次啟動,降低了生產效率。技術實現要素:本申請實施例提供一種剝離液機臺及其工作方法,可以提高生產效率。本申請實施例提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過***管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上設置有閥門開關。在一些實施例中。滁州江化微的蝕刻液剝離液訂做價格