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銀蝕刻液主要用于印刷線路板制造，銀器及銀合金的蝕刻、標牌制作。二、突出特點1．蝕刻速度快，效率高。使用方便。蝕刻最高速度可達2000納米/秒。2．可循環使用，無廢液排放。三、理化指標外觀：液體；氣味：微；比重：1.05±0.1；pH：偏堿性四、使用方法1．預處理：如銀或銅合金表面不潔凈，需對表面進行潔凈處理，如除油、除雜等。2．蝕刻：(1).將圖案模板紙粘附于銀板或銀器上，再將銀蝕刻液用噴淋設備噴于圖案處，時間1分鐘到幾十分鐘不定（用戶可根據蝕刻要求自行試驗時間，因模板紙不同，時間也不同），揭去模板紙，用清水沖掉殘物。(2).用100-200T的絲網，75度硬度的聚酯刮膠，將光固化抗蝕刻油墨印...

更推薦滿足。參照圖4，在添加劑(硅烷系偶聯劑)的aeff處于，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶聯劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規格(spec)滿足區間)即aeff為2以上，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內的情況下，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力，由此，即使沒有消耗費用和時間的實際的實驗過程，也能夠選擇具有目標防蝕能力的硅烷系偶聯劑等添加劑。本發明的上述硅烷系偶聯劑等添加劑推薦按照保護對...

所述裝置主體前端表面靠近左上邊角位置設置有活動板，所述分隔板右端放置有蓄水箱，所述蓄水箱上端靠近右側連接有進水管，所述回流管下端連接有抽水管，所述抽水管內部上端設置有三號電磁閥，所述裝置主體前端表面靠近右側安裝有控制面板。作為本發明的進一步方案，所述分隔板與承載板相互垂直設置，所述電解池內部底端的傾斜角度設計為5°。作為本發明的進一步方案，所述進液管的形狀設計為l型，且進液管貫穿分隔板設置在進液漏斗與伸縮管之間。作為本發明的進一步方案，所述圓環塊通過伸縮桿活動安裝在噴頭上方，且噴頭通過伸縮管活動安裝在電解池上方。作為本發明的進一步方案，所述回流管與進水管的形狀均設計為l型，所述傾斜板的...

蝕刻液也可含有α-羥基羧酸和/或其鹽。α-羥基羧酸及其鹽具有作為鈦的絡合劑的效果，可抑制蝕刻液中產生鈦的沉淀。作為所述α-羥基羧酸，例如可舉出酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度并無特別限制，從絡合效果及溶解性的觀點來看，推薦為％至5重量％，更推薦為％至2重量％。另外，蝕刻液也可含有亞硫酸及/或其鹽。亞硫酸及其鹽具有作為還原劑的效果，可提高鈦的蝕刻速度。亞硫酸和/或其鹽的濃度并無特別限制，從還原性及臭氣的觀點來看，推薦為％至％，更推薦為％至％。蝕刻液中除了上述的成分以外，也能以不妨礙本發明效果的程度添加其他成分。作為其他成分，例如可舉出表面活性劑、成分穩...

負的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發生的副反應氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發生**少化。因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物...

為本實用新型擋液板結構其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖，以及其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖，在本實用新型其二較佳實施例中，開設于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，例如：圖4中所示的w1，其中w1大于圖3的w或圖5的w2，其中w2大于w，而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內產生毛細現象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現時，則該水滴不至于經由該宣泄孔121落至下表面，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外，請參閱圖6與圖7所示...

如前文所述，必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題，因此，該復數個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小，例如：孔徑a0小于3mm，即可因毛細現象的作用，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4，而達到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經由該復數個宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖9所示)。再者，請再參閱圖10至圖12所示，為本實用新型蝕刻設備其二較佳實施例的擋液板結構結合風刀裝置示意圖、其三較佳實施例的擋液板結構結合風刀裝置示意圖，以及宣泄孔的表面張力局部放大圖，其中該宣...

將裝置主體1內部的蝕刻液進行清洗，具有很好的清理作用。工作原理：對于這類的回收處理裝置，首先將蝕刻液倒入進液漏斗6并由過濾網7過濾到進液管8中，之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動噴頭10向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池4的功能，之后金屬銅在隔膜5左側析出；其次在蝕刻液初次電解后，通過控制面板30啟動增壓泵16并打開一號電磁閥18，將蝕刻液通過回流管15抽入到一號排液管17中，并由進液管8導入到伸縮管9中，直至蝕刻...

鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據查詢相關信息顯示：鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設計的化學品，STM-AL100的組成有主要蝕刻化學品，添加劑，輔助化學品，對于控制蝕刻均勻以及穩定的蝕刻速率一定的效果，在長效性的表現上更是無話可說.在化學特性上，鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學品攻擊，本化學品設計上為酸性配方且完全可被水溶解，故無須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產的用途可以調整藥液溫度來調整蝕刻速率，所以本化學品對于初次使用者來說，是簡單容易上手。華星光電用的哪家的蝕刻液？安徽BOE蝕刻液蝕刻液訂做價格 本實用涉及電子化學品生產設備技術領域，具體為高蝕刻速...

所述有機硫化合物具有作為還原劑及絡合劑(chelate)的效果。作為所述硫酮系化合物，例如可舉出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N'-二烷基硫脲、N,N,N'-三烷基硫脲、N,N,N',N'-四烷基硫脲、N-苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N'-二苯基硫脲及亞乙基硫脲等。烷基硫脲的烷基并無特別限制，推薦為碳數1至4的烷基。這些硫酮系化合物中，推薦使用選自由作為還原劑或絡合劑的效果及水溶性優異的硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。作為所述硫醚系化合物，例如可舉出甲硫氨酸、甲硫氨酸烷基酯鹽酸鹽、乙硫氨酸、2-羥基-4-(烷硫基)丁酸及3-(烷硫基)丙酸等。烷...

博洋股份擁有甲類、丙類的危化品生產和倉儲**廠房，功能包括了液體稀釋、固體溶解、液體和固體混配等工藝要求的定制研發類別Category危化品等級Hazardouschemicalsgrade設備材質Materialofequipment工藝TechnologyOEM定制加工OEM第三類Thethird(flammableliquilds)不銹鋼Stainlesssteel溶解、稀釋Dissolutionanddilution第五類Thefifth(oxidizingsubstanceandorganicperoxides)搪瓷Enamel固液配料Solid-liquidingredients第...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應，又能與堿反應，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網版印上紋樣，油墨型號為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細膩，印出的紋樣質量高。印完紋樣后放進電爐內烘干，然后用即時貼封住后面，用膠帶封邊，進入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時應平放，在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣，應隨時用毛刷去掉，鋁面上冒出大量泡泡，滓渣隨泡泡浮起...

對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。實施例一，請參閱圖1-4，本實用新型提供技術方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產裝置，包括裝置主體1、支撐腿2、電源線3和單片機4，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2，裝置主體1的后面一側底部固定連接有電源線3，裝置主體1的一側中間部位固定連接有控制器5，裝置主體1的內部底端一側固定連接有單片機4，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲罐14，裝...