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無掩膜光刻基本參數
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型號
  • 齊全
  • 產地
  • 德國
  • 廠家
  • Nanoscribe
無掩膜光刻企業商機

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作??梢源钆洳煌幕澹úAВ杈?,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現球形,非球形,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質量表面和形狀精度。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手。天津高精度無掩膜光刻PPGT

天津高精度無掩膜光刻PPGT,無掩膜光刻

借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。上海2GL無掩膜光刻系統想要了解無掩膜光刻的技術內容,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造專家,一直致力于開發和生產3D微納加工系統和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上首套基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續執行一系列打印作業。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業,并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。德國Nanoscribe雙光子無掩模光刻微納技術你想了解嗎?歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。想要了解無掩膜光刻的特點和用途,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。湖南Nanoscribe無掩膜光刻技術

無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術,即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。天津高精度無掩膜光刻PPGT

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(MEMS)。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。天津高精度無掩膜光刻PPGT

納糯三維科技(上海)有限公司是一家有著雄厚實力背景、信譽可靠、勵精圖治、展望未來、有夢想有目標,有組織有體系的公司,堅持于帶領員工在未來的道路上大放光明,攜手共畫藍圖,在上海市等地區的儀器儀表行業中積累了大批忠誠的客戶粉絲源,也收獲了良好的用戶口碑,為公司的發展奠定的良好的行業基礎,也希望未來公司能成為行業的翹楚,努力為行業領域的發展奉獻出自己的一份力量,我們相信精益求精的工作態度和不斷的完善創新理念以及自強不息,斗志昂揚的的企業精神將引領納糯三維科技供應和您一起攜手步入輝煌,共創佳績,一直以來,公司貫徹執行科學管理、創新發展、誠實守信的方針,員工精誠努力,協同奮取,以品質、服務來贏得市場,我們一直在路上!

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