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無掩膜光刻基本參數
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型號
  • 齊全
  • 產地
  • 德國
  • 廠家
  • Nanoscribe
無掩膜光刻企業商機

斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心,共同合作研發了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內窺鏡可以幫助檢測人體動脈內的斑塊、血栓和膽固醇晶體,因此對于醫學檢測極其重要,可以有助于減少中風和心臟病發作的風險。來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(IMSAS)研究所的科學家們發明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統,利用雙光子聚合原理(2PP)結合光刻技術,將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。低成本:無掩膜光刻技術降低了掩膜的成本,同時也減少了制造時間和材料浪費。天津微納米無掩膜光刻多少錢

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QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果,同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。。湖北2GL無掩膜光刻技術Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統可適用于科研和工業領域應用。

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Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創新3D結構的制作想要了解無掩膜光刻的特點和用途,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環境進行生物打印,適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產品線開發,用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與Nanoscribe公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯手的協作效應,可以實現更逼真的組織結構,例如血管化和細胞支持體等。2PP技術將實現CELLINK集團所有三個業務的跨領域應用,并增強集團的耗材產品開發和供應。“借助Nanoscribe特別先進的2PP技術,我們可以實現擴大補充我們的產品組合,為我們的客戶提供更加廣的產品。”CELLINK首席執行官ErikGatenholm強調說,“為了改善全球人民的健康狀況,我們正在以此為目標導向,不斷強大公司擴大規模,持續開發研究開創性生物融合技術。”更多無掩模光刻系統的信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。湖北2GL無掩膜光刻技術

而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統設計自由度高,輕松實現收集光束傳輸到波導中。天津微納米無掩膜光刻多少錢

Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數的特性,這些特性對于3D微納加工創新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統的情況下。由于在紅外區域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優先,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,例如光電應用中,他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統,內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。天津微納米無掩膜光刻多少錢

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