作為微納加工和3D打印領域的帶領者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推出的中文版官網在視覺效果上更清晰，結構分類上更明確。首頁導航欄包括了產品信息，產品應用數據庫，公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經理崔博士表示：“中文網站的發布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產品以及在科研和工業方面的應用。” 使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統制作的微流控元件可以完全嵌入進預制的二維微流道系統。海南Nanoscribe設備
由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。 四川雙光子聚合Nanoscribe中國納米尺度結構制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。
Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開，在微流控研究中，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業大學（RWTHUniversityofAachen）和不來梅大學（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架，以推動細胞培養和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就，并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中，布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案
Nanoscribe獨有的體素調諧技術2GL®可以在確保優越的打印質量的同時兼顧打印速度，實現自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實現在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態體素調整需要相對較少的打印層次，即可實現具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著在滿足苛刻的打印質量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統。2GL®作為市場上快的增材制造技術，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優越打印質量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統都高出10到60倍。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業中的特點與應用。
Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。 德國Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前世界公認的打印精度處于頭一位的3D打印機。德國2GLNanoscribe微流道
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Nanoscribe雙光子灰度光刻（2GL®）是一種用于生成2.5D拓撲的新型增材制造技術。通過這種技術，在掃描一層的情況下，可以打印離散和準確的步驟以及基本連續的拓撲，從而縮短了打印時間。2GL是無掩膜灰度光刻技術家族的新成員，其使用功率調節激光來塑造微納米結構功能器件的高度輪廓。雙光子灰度光刻（2GL®）是一項突破性的創新技術，將灰度光刻的優勢與雙光子聚合（2PP）的精度和靈活性相結合。光學元件如何對準并打印到光子芯片上？打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件，智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征，以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口，使其光軸和方向完美對準。 根據該坐標系打印的光學元件可確保比較好的光學質量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現高效的光耦合。海南Nanoscribe設備
