德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統 (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯合創始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業中的快速原型制作和批量生產。”
Nanoscribe的3D打印設備具有高設計自由度和高精度的特點。湖南2PPNanoscribe微納光刻
IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫學研究中心的科學家們新研發的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm。 湖北微納Nanoscribe工藝更多有關3D雙光子無掩模光刻技術的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。
科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(2PP) ，發明了GRIN 光學微納制造工藝。這種新的制造技術實現了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝，科學家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15?μm 直徑）。相似于人類眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節范圍甚至超過0.3。
光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域，例如數據通訊，激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術，尤其是微型光子組件應用，可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰性，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。
Nanoscribe的3D打印設備可以制造出針對生物醫學領域不同應用的復雜3D設計。
基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術，具備體素動態控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時，調制曝光劑量會改變光敏樹脂內的體素大小，從而實現對聚合體素尺寸的精細可控變化。這是激光功率調制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結果。為此，將灰度圖像轉換為曝光級別的空間變化，從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優勢？ 雙光子灰度光刻 技術（2GL®）使用激光束調制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調節，從而實現光學質量表面結構。通過高精度定位單元和自校準程序，可在拼接相鄰打印區域時以出色準確性進行打印，以制造大型結構。2GL動態調整打印場邊界處的激光劑量，以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷。通過這種功能組合，可以在幾平方厘米的區域內打印出真正的無縫結構，消除所有拼接痕跡。微納光學器件制造，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。重慶2GLNanoscribe3D微納加工
這項技術具有快速、精確和可定制的特點。湖南2PPNanoscribe微納光刻
傳統3D打印難以實現對于復雜設計或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑、曲線或精細結構的打印時間。雙光子聚合技術（2PP）則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術（2GL®）可實現體素調節，從而明顯減少打印層數。這是通過掃描過程中的快速激光調制來實現的。并且，這項技術已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®，該技術具備實現出色形狀精度的優越打印品質，并將Nanoscribe的灰度技術拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現實時動態調整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學級表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。 湖南2PPNanoscribe微納光刻
