QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統，非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。更多無掩模光刻技術的相關信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。重慶2GL無掩膜光刻設備

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。廣東2GL無掩膜光刻系統了解雙光子無掩模光刻技術在微納醫學中的應用，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專家，一直致力于開發和生產3D微納加工系統和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優于主導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子，機械，生物或化學特性的創新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術。

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專家，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術。河南2GL無掩膜光刻3D打印

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Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。重慶2GL無掩膜光刻設備

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著先進的發展理念，先進的管理經驗，在發展過程中不斷完善自己，要求自己，不斷創新，時刻準備著迎接更多挑戰的活力公司，在上海市等地區的儀器儀表中匯聚了大量的人脈以及客戶資源，在業界也收獲了很多良好的評價，這些都源自于自身不努力和大家共同進步的結果，這些評價對我們而言是最好的前進動力，也促使我們在以后的道路上保持奮發圖強、一往無前的進取創新精神，努力把公司發展戰略推向一個新高度，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同納糯三維科技供應和您一起攜手走向更好的未來，創造更有價值的產品，我們將以更好的狀態，更認真的態度，更飽滿的精力去創造，去拼搏，去努力，讓我們一起更好更快的成長！