本發明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術：氮化硅是一種具有很高的化學穩定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現不均勻的現象，體現于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現氮化硅層的均勻蝕刻。技術實現要素：本發明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液。蘇州博洋化學股份有限公司歡迎咨詢BOE蝕刻液。山東介紹BOE蝕刻液銷售價格

    添加劑為二乙二醇單甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為％、％、％。實施例6本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質量的％、％、％。對照例對照例中所含成分顯示于表1，并采用與實施例相同的方法進行處理。對照例1為純磷酸，總質量為400g。對照例2為磷酸、丙二醇丁醚，其中丙二醇丁醚的添加量為總質量的％。對照例3為磷酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，其中脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p的添加量為總質量的％。結果如表2所示，與對照例蝕刻液相比，實施例蝕刻液有更低的表面張力和接觸角，并且氮化硅層蝕刻后顯示出良好的均勻性。表1表2顯然，上述實施例和對照例是為了清楚地說明所作的實例，而并非對實施方式的限制。對于所屬領域的技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動，這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而因此所引申的顯而易見的變化或變動仍處于本發明創造的保護范圍之內。河南一種BOE蝕刻液訂做價格BOE蝕刻液的主要成分。

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    該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為總質量的％、％。實施例2本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為三乙二醇乙醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質量的％、％。實施例3本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為三甘醇單丁醚、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質量的％、％。實施例4本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為二乙二醇單甲醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為總質量的％、％。實施例5本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。蘇州博洋專業生產,BOE蝕刻液。山東介紹BOE蝕刻液溶劑

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