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deacuerdoconlaclasificacióndeáreasrealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióóndeestosdepósitosnoseránecesarialautilizacióíósitosdeberánllevaradheridaenlapartedelavirolajuntoalabocadehombre,deformaquequedevisibleunavezinstalado,unaplacadecaracterísticasdemetal,e...

名稱：含有全氟丁基醚的組合物的制作方法含有全氟丁基醚的組合物本發明涉及共沸或共沸型的全氟丁基醚混合物或組合物。更具體地說，本發明的一個主題是包含至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物。地球大氣阻擋了來自于地球的IR發射，這是導致溫室效應和有利于生命的適度溫度的原因。在大氣中，主要是二氧化碳0)2導致這種自然界的溫室效應。人類排放的某些氣體(包括來自化石燃料的co2)增強了該效應，導致全球變暖及其對于氣候的影響暴風雨、洪水、浮冰表面積的變化和冰)I丨消退。京都議定書(1997)的目標是相對于1990年(基準年)，在20082012年的承諾期間內，使6種溫室氣體(C02、CH4、...

所述的磷酸濃度為82-87％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進一步地，在使用本發明的蝕刻液進行氮化硅層蝕刻時，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時間為5-60min。通過在磷酸中添...

此處所描述的具體實施例用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。參照圖1，本實用新型實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統包括：電解槽1、射流器2、再生液調配缸3、液體泵4，其中，電解槽1具有一出液口和出氣口，且電解槽1中內置有酸性蝕刻液，電解槽1對該酸性蝕刻液進行電解提銅，產生氯氣，得到電解后液，并且，產生的氯氣通過位于上方的出氣口排出，電解后液通過位于下方的出液口排出。射流器2包括混氣室21和擴散管22，混氣室21和擴散管22之間為喉管，混氣室21具有進氣口2a、進液口2b、出液口2c，擴散管22連接至出液口2c，進氣口2a通過導氣管a與電解槽1的出氣口連接以接收氯氣，擴散管22...

deacuerdoconlaclasificacióndeáreasrealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióóndeestosdepósitosnoseránecesarialautilizacióíósitosdeberánllevaradheridaenlapartedelavirolajuntoalabocadehombre,deformaquequedevisibleunavezinstalado,unaplacadecaracterísticasdemetal,e...

其擴散管深入到所述再生液調配缸中；液體泵，其一端通過管道連接所述再生液調配缸的循環出液口，另一端通過管道連接所述射流器的進液口，用于將所述再生液調配缸中的電解后液通過所述管道抽取至所述射流器的進液口。進一步地，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統還包括：曝氣裝置，用于向所述再生液調配缸中的電解后液輸送氣體以進行攪拌。進一步地，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統還包括：后續處理系統，用于向經過所述再生液調配缸處理過的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻。更進一步地，所述電解槽的陽極為石墨電極，陰極為鈦或鈦合金板狀電極。更進一步地，所述電解槽中陰極與陽極之間的距離為55mm。更進一步地，所述電解槽的...

litrosdecapacidadnominal:.oParadepósitosde&litrosdecapacidadnominal:óánecesarialaejecucióndeuncubetoestancocontubobuzodetectordefugasparaalojarlosdepóánsuperaralasdelosdepóósitosdistaránentresíunmetrocomomíósitosserellenarádearenadelascaracterísticasqueseindicanenelapartado,inclusosobrelapartesu...

sedispondrándispositivosdecorteporintensidaddedefecto,medianteinterruptoresdiferenciales,consensibilidadmáóncontraelectricidadestática,deberárealizarseunauniónequipotencialdemasas,ánestarconectadasaestared,tanquesdealmacenamiento,tuberías,estructurasmetálicas,aparatossurtidores,asícomolosconduct...

conunanormaeuropeaENoconunarecomendaciónCEIparaalgunosdelosmodosdeprotecciónsiguientes:1.oInmersiónenaceite?o?.2.oSobrepresióninterna?p?.3.oRellenopulverulento?q?.4.oEnvolventeantideflagrante?d?.5.oSeguridadaumentada?e?.6.oSeguridadintrínseca?i?.7.oEncapsulado?m?.orespaldadosporcertificadosdecon...

WeofferBOELCDscreen,DisplayscreenWearefreeforyouProvideLCDscreenSample,WearefreeforyouDesignLCDscreenControlboardSampleHVA10QUX-100HVA10QUX-101HV975SUC-200HV650QUS-300DV650QUM-AN0HV550QUS-300HV550WUP-200HV550WUS-200HV550WUC-200HV550WU2-202HV550QU2-301HV550WU2-200HV550WU2-370HV550QU2-305HV550FHC-

segúáuncertificadodefabricaciónconcadadepósitoenelquesejustifiqueelcumplimientodelosensayosdefinidosenlanormadefabricacióncorrespondiente,según,óón(brida,valonaybridaloca,rosca,etc.)atubosdellenado,ventilación,aspiración,etcéán:1.o.oSobrelageneratrizsuperiordelosdepóósitoestaráprovistodelassigui...

所述的磷酸濃度為82-87％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進一步地，在使用本發明的蝕刻液進行氮化硅層蝕刻時，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時間為5-60min。通過在磷酸中添...

óíasdeplásticoflexiblenorequerirándeunrecubrimientoadicionaldebarreraanticorrosivaoprotecciones,íasdeplásticoflexibleesnecesarioquecumplanlossiguientesrequisitos:a)Resistenciaquímicainternayexternaaproductospetrolíferos,)Resistenciamecánicaalapresióíáóneléóndeáóndeáreasserárealizadasegúnelproced...

moldeoporcompresiónoporcualquierotroprocedimientoqueofrezcacaracterísticastéámetrointeriordelavirolayelradiodelreborde,nodebeserinferioral10por100deldiá)Ovalización:Pordefinición,laovalizaciónesladiferenciaentreeldiámetrorealverticalantesydespuésdeenterrar,cuandoeldepósitoseencuentravacío,dividi...

chispasocalentamientossuperficialescapacesdeprovocarlaignicióndelaatmóéctricasenlosemplazamientosqueresultenclasificadoscomozonasconpeligrodeexplosiónodeincendio,selesaplicarálasprescripcionesestablecidasenICMIEBT026,áóndelasgasolinasesde280oC,asípueslatemperaturamáximasuperficialdelosmateriales...

這兩種體系再生設備設備不僅可以節省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。二、蝕刻液再生循環系統在電子線路版（PCB）蝕刻過程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達到比較好的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平，蝕刻用過后的（以下稱[用后蝕刻液]）溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補充劑及氨水，補償因運作時被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液，既可達到蝕刻工藝的要求，又可節省生產成本。蝕刻液再生...

deacuerdoconlaclasificacióndeáreasrealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióóndeestosdepósitosnoseránecesarialautilizacióíósitosdeberánllevaradheridaenlapartedelavirolajuntoalabocadehombre,deformaquequedevisibleunavezinstalado,unaplacadecaracterísticasdemetal,e...

tuberíayaparatosurtidorotubuladuradeldepóíarígidayconectorflexibledeberánserfáónquedarácondicionadaaqueestematerialcumplalosrequisitosdegarantíadecalidadcertificadasegúóóíasenterradasseránprotegidascontralacorrosiónporlaagresividadyhumedaddelterrenomedianteunacapadeimprimaciónantioxidanteyrevest...

Buffered Oxide Etch，BOE就是buffer oxide etch， B.O.E 緩沖蝕刻液 BOE是HF與NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蝕刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（體積比）的成分混合而成。刻蝕速度約10nm每秒。HF為主要的蝕刻液，NH4F則作為緩沖劑使用。利用NH4F固定〔H+〕的濃度，使之保持一定的蝕刻率。HF會浸蝕玻璃及任何含硅石的物質，對皮膚有強烈的腐蝕性，不小心被濺到，應用大量水沖洗。 BOE（Buffered Oxide Etch），緩沖氧化物刻蝕液。由氫氟酸（49%）與水或氟化銨與水混合而成。 BOE蝕刻液的...

enlasoperacionesquedebanserrealizadas,eintensificadasenlospuntosdeactuacióáánelmododeproteccióndeacuerdoconlaICMIEBT026ydeberánincluirensumarcadolatensiónyfrecuencianominales,lapotenciamáximayeltipodeláóndealumbradoserealizaráconcircuitosseparadosparacadaservicio,alumbradodemarquesina,báculosdea...

siendoobligatorioelusodeacoplamientoscompatiblesconlamangueradelcamióncisternaylabocadecargadelosdepóápidasserándematerialesquenopuedanproducirchispasenelchoqueconotrosmaterialesyseajustaránaloespecificadoenlanormaDIN(partes1a5).Dispondrándesistemadecierreherméticoaladesconexióóánidentificadasme...

siendolaresultantemíósitosdeberáserarenasilíceayestarlavada,limpia,secayexentadearcillas,limos,componentesdeazufreydecualquierotrasustanciaquepuedaatacarquímicamentealosmaterialesdeldepósito;eltama?odelosgranosdearenaestarácomprendidoentre0,1y2milíánecesarialainstalacióndecubeto,circunstanciaque...

所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。5.權利要求14中任一項的組合物，特征在于，所述組合物是共沸的或共沸型的。6.權利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。7.共沸組合物，其包含8重量％的甲基四氫呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點。8.權利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含1040重量％的甲基四氫呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚。9.共沸組合物，其包含％的甲基四氫呋喃和％的九氟丁基乙基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點。10.制冷劑，特征在于，其包含前述...

所述組合物包含540重量％的甲基四氫呋喃和6095重量％的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。的甲基四氫呋喃是2-甲基四氫呋喃。在式C4F90R的九氟丁基烷基醚中，九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。不論R是什么，的九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。共沸或共沸型的組合物是特別有利的。當R為甲基時，該共沸或共沸型的組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。包含8重量％的甲基四氫呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚的共沸組合物在大氣壓下具有°C的沸點。當R為乙基時，該共沸或共沸型的組合物包含1040重量％的甲基四氫呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基...

previadeliberacióndelConsejodeMinistrosensureunióndeldía28dediciembrede1995,DISPONGO:ArtículoúónTécnicaComplementariaMI-IP04?Instalacionesfijasparadistribuciónalpormenordecarburantesycombustiblespetrolíferoseninstalacionesdeventaalpúblico?,delReglamentodeInstalacionesPetrolíferas,aprobadoporReal...

名稱：含有全氟丁基醚的組合物的制作方法含有全氟丁基醚的組合物本發明涉及共沸或共沸型的全氟丁基醚混合物或組合物。更具體地說，本發明的一個主題是包含至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物。地球大氣阻擋了來自于地球的IR發射，這是導致溫室效應和有利于生命的適度溫度的原因。在大氣中，主要是二氧化碳0)2導致這種自然界的溫室效應。人類排放的某些氣體(包括來自化石燃料的co2)增強了該效應，導致全球變暖及其對于氣候的影響暴風雨、洪水、浮冰表面積的變化和冰)I丨消退。京都議定書(1997)的目標是相對于1990年(基準年)，在20082012年的承諾期間內，使6種溫室氣體(C02、CH4、...

微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發設計了不同的循環再生設備。無論是過硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設備均可把飽和微蝕液處理再生后，返回客戶生產線繼續使用，回用時，不改變客戶原生產工藝參數；在運行我們公司設備時可不停機亦可更換藥水，從而達到穩定生產的目的。這兩種體系再生設備設備不僅可以節省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。BOE蝕刻液的大概費用大概是多少？福建什么是...

蘇州博洋化學股份有限公司研發中心擁有先進的科研生產和檢測設備，專業的研發團隊。致力于電子領域環保、節能、環境友好化學品的研究開發；并根據客戶的個性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學、蘇州科技大學、上海交通大學等高校研發隊伍為依托，對新技術、新設備的研究進行精細化管理，以達“技術求新，產品求精”，開發能夠提升人類生活品質的新型電子產品配套材料為目標，把公司建成國內前列和國際前列的新型電子化學品材料專業制造企業。使用BOE蝕刻液需要什么條件。技術密集BOE蝕刻液銷售廠家銅酸蝕刻液是半導體和顯示技術中一類重要的原材料。半導體、薄膜晶體管液晶顯示器)，有機發光半導體)等微...

蘇州博洋化學股份有限公司研發中心擁有先進的科研生產和檢測設備，專業的研發團隊。致力于電子領域環保節能環境友好化學品的研究開發；并根據客戶的個性化需求量身定做整套解決方案，力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學、蘇州科技大學、上海交通大學等高校研發隊伍為依托，對新技術、新設備的研究進行精細化管理，以達“技術求新，產品求精”，開發能夠提升人類生活品質的新型電子產品配套材料為目標，把公司建成國內前列和國際前列的新型電子化學品材料專業制造企業。 蘇州市高新區滸關工業園華橋路155號 蘇州市高新區滸關工業園華橋路155號公司地址：蘇州市高新區滸關工業園華橋路155號 友達光電用的哪家的BOE蝕...

這兩種體系再生設備設備不僅可以節省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。二、蝕刻液再生循環系統在電子線路版（PCB）蝕刻過程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達到比較好的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平，蝕刻用過后的（以下稱[用后蝕刻液]）溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補充劑及氨水，補償因運作時被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液，既可達到蝕刻工藝的要求，又可節省生產成本。蝕刻液再生...