顯影是在正性光刻膠的曝光區和負性光刻膠的非曝光區的光刻膠在顯影液中溶解,在光刻膠上形成三維圖形的一種光刻技術。技術簡介顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解,將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。最常見的顯影方法是旋轉、噴霧、浸潤,然后顯影。硅片用去離子水沖洗...
沖洗系統沖洗系統主要是由兩組噴淋管向版面正反面噴淋清水,以除去附著在版面上的顯影生成物和多余的顯影液,并通過擠壓輥擠去版面上的水分;同時具備二次水洗功能。涂膠系統涂膠系統主要功能是在顯影后的版面上涂上一層均勻的保護膠。干燥系統干燥系統由送風管和膠輥組成,通過吹風和加熱使印版迅速干燥,***將印版送出。顯影液配置顯影液配置需參考顯影液說明書和印版說明書,一般推薦使用印版廠家配送的顯影藥液,配置出的顯影液必須保證不同厚度版材的顯影寬容度。藥液自動循環過濾,保證各處藥液濃度和溫度均勻一致。蘇州優勢涂膠顯影機銷售電話
將膠漿(包括溶劑膠漿、膠乳和水膠漿)均勻地涂覆到織物表面上的工藝。涂膠方法有刮涂、輥涂、浸涂和噴涂四種。制造很薄的膠布(0.15mm以內),而又要求有較高耐透氣性與耐水性時,適宜用涂膠法多次涂膠。若織物強度很小,經不起壓延貼膠壓力時,宜用涂膠法。織物先涂膠而后壓延貼膠,可顯著提高纖維與膠料的黏結力。按國家規定,生產車間空氣中,汽油氣體濃度不得超過0.3mg/L,當濃度達5~6mg/L時,可導致急性中毒。降低溶劑氣體濃度***的方法是設置溶劑回收裝置,并同時設有良好的通風裝置。生產車間中的電動機、排風機及照明設備的電開關,都須全密閉式,以避免產生電火花。傳動帶、涂膠機、攪拌機等,均須安裝有效的導靜電設備及接地線路,并需有效的滅火器材,時刻注意防火防爆。南京國產涂膠顯影機廠家現貨根據版材厚度范圍調節,保證顯影寬容度。
影片從化學加工***工序出來除去水滴后,乳劑中仍含有大量水分,需經干燥處理。洗片機具有干燥箱,用從本身自備的或總的空氣調節系統中取得加溫低濕清潔空氣,去烘除影片乳劑中所含水分。供風的氣流愈快﹑濕度愈低﹑溫度愈高則干燥愈迅速。但是溫度不能過高,影片也不允許過度干燥,否則會出現翹曲。因此一般需采用溫度自動控制裝置。吸收了水分的空氣被排走或經去濕處置后再循環利用。現代洗片機多采用沖擊式干燥,即將溫度較高的空氣,在接近膠片處的許多縫隙或小孔中高速吹出,這種方法效率**燥箱的體積小。
同時,系統可在不按下車型按扭情況下工作,操作工可自由選擇工件,可單件或幾種工件一起組合,按下相應的工件指示燈(按扭式),相應工件的自動檢測開關開始工作,紅燈亮,裝夾好相應的工件后,工件到位檢測綠燈亮后,方可按下機器人起動按扭,機器人按檢測到的工件自動調用相應的程序自動點膠;點膠完畢機器人自動復位,程序結束指示燈亮;同樣,如果不更改工件號或工件組合,系統將默認上次程序內容進行工作直至更改工件或工件組合;具體參數需根據版材和顯影液類型來設定。
顯影偏壓顯影偏壓由高壓板產生,并施加于顯影輥,用以提供圖像對比度。例如:顯影套筒的偏壓由交流電(AC)提供,如京瓷KM-1650機器:顯影偏壓Vp-p:所施加電壓的最大值和最小值之差;固定高壓:1.6kV;Vf:頻率;一般為2.7kHz,該值根據驅動時間預設值和環境校正的不同而不同;占空比:一個周期內正電壓所占的時間比例一般為45%;Vdc:顯影偏壓290V;Vo:感光鼓表面非圖像區域(未曝光區)的電壓;VL:感光鼓表面圖像區域(曝光區)的電壓。 [2]自動化程度高:可以與光刻機聯機作業,滿足工廠自動化生產的需求。新吳區品牌涂膠顯影機按需定制
定期徹底清洗膠輥,保證各膠輥之間壓力均勻(每周一次);蘇州優勢涂膠顯影機銷售電話
進行顯影的方式有很多種,***使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個階段:硅片被置于旋轉臺 [2]上,并且在硅片表面上噴灑顯影液;然后硅片將在靜止的狀態下進行顯影;顯影完成后,需要經過漂洗,之后再烘干。顯影后留下的光刻膠圖形將在后續的刻蝕和離子注入工藝中作為掩模,因此,顯影是一步重要的工藝。嚴格的說,在顯影時曝光區和非曝光區的光刻膠都有不同程度的溶解。曝光區與非曝光區的光刻膠溶解速度反差越大,顯影后得到的圖形對比度越高。蘇州優勢涂膠顯影機銷售電話
無錫凡華半導體科技有限公司是一家有著先進的發展理念,先進的管理經驗,在發展過程中不斷完善自己,要求自己,不斷創新,時刻準備著迎接更多挑戰的活力公司,在江蘇省等地區的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**,在業界也收獲了很多良好的評價,這些都源自于自身的努力和大家共同進步的結果,這些評價對我們而言是比較好的前進動力,也促使我們在以后的道路上保持奮發圖強、一往無前的進取創新精神,努力把公司發展戰略推向一個新高度,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同凡華供應和您一起攜手走向更好的未來,創造更有價值的產品,我們將以更好的狀態,更認真的態度,更飽滿的精力去創造,去拼搏,去努力,讓我們一起更好更快的成長!
顯影是在正性光刻膠的曝光區和負性光刻膠的非曝光區的光刻膠在顯影液中溶解,在光刻膠上形成三維圖形的一種光刻技術。技術簡介顯影是在硅片表面光刻膠中產生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區域被化學顯影劑溶解,將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。最常見的顯影方法是旋轉、噴霧、浸潤,然后顯影。硅片用去離子水沖洗...
梁溪區定制晶舟轉換器廠家直銷
2025-05-09梁溪區挑選激光打標機廠家直銷
2025-05-09錫山區國產涂膠顯影機廠家直銷
2025-05-09江蘇質量晶舟轉換器私人定做
2025-05-09濱湖區標準涂膠顯影機廠家供應
2025-05-09江陰如何涂膠顯影機廠家供應
2025-05-09宜興挑選甩干機按需定制
2025-05-09無錫優勢激光打標機廠家供應
2025-05-09新吳區質量晶舟轉換器銷售廠家
2025-05-09