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企業商機
氧化石墨基本參數
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氧化石墨企業商機

Su等人28利用氫碘酸和抗壞血酸對PET基底上的多層氧化石墨烯薄膜進行化學還原,得到30nm厚的RGO薄膜,并測試了其滲透性能。實驗發現,對He原子和水分子完全不能透過。而厚度超過100nm的RGO薄膜對幾乎所有氣體、液體和腐蝕性化學試劑(如HF)是高度不可滲透的。特殊的阻隔性能歸因于石墨烯層壓板的高度石墨化和在還原過程中幾乎沒有結構損壞。與此結果相反,Liu等人29已經證明了通過HI蒸氣和水輔助分層制備**式超薄rGO膜的簡便且可重復的方法,利用rGO膜的毛細管力和疏水性,通過水實現**終的分層。采用真空抽濾在微孔濾膜基底上制備厚度低至20nm的**式rGO薄膜。在用氧化還原法將石墨剝離為石墨烯的工業化生產過程中,得到的石墨烯微片富含多種含氧官能團。制造氧化石墨材料

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在氧化石墨烯的納米孔道中,分布著氧化區域和納米sp2雜化碳區域,水分子在通過氧化區域時能夠與含氧官能團形成氫鍵,從而增加了水流動阻力,而在雜化碳區域水流阻力很小。芳香碳網中形成的大多數通路被含氧官能團有效阻擋,從而分離海水中Na+和Cl-等小分子物質12,13。相比于其他納米材料,GO為快速水輸送提供了較多優越性能,如光滑無摩擦的表面,超薄的厚度和超高的機械強度,所有這些特性都提高了水的滲透性。前超濾膜、納濾膜、反滲透膜等膜技術,已經成功地應用到水處理的各個領域,引起越來越多的企業家和科學家的關注8-11。GO薄膜在海水淡化領域的應用主要是去除海水中的鹽離子,探究GO薄膜的離子傳質行為具有更為重要的實用意義。浙江制造氧化石墨松散的氧化石墨分散在堿性溶液中形成類似石墨烯結構的單原子厚度的片段。

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氧化石墨烯(GO)表面有羥基、羧基、環氧基、羰基等親水性的活性基團,且片層間距較大,使得氧化石墨烯具有超大比表面積和***的離子交換能力。GO的結構與水通蛋白相類似,而蛋白質本身具有優異的離子識別功能,由此可推斷氧化石墨烯在分離、過濾及仿生離子傳輸等領域可能具有潛在的應用價值1-3。GO經過超聲可以穩定地分散在水中,再通過傳統成膜方法如旋涂、滴涂和真空抽濾等處理后,GO微片可呈現肉眼可見的層狀薄膜堆疊,在薄膜的層與層之間形成具有選擇性的二維納米通道。除此之外,GO由于片層間存在較強的氫鍵,力學性能優異,易脫離基底而**存在。基于GO薄膜制備方法簡單、成本低、高通透性和高選擇性等優點,其在水凈化領域具有廣闊的應用空間。

還原氧化石墨烯(RGO)在邊緣處和面內缺陷處具有豐富的分子結合位點,使其成為一種很有希望的電化學傳感器材料。結合原位還原技術,有很多研究使用諸如噴涂、旋涂等基于溶液的技術手段,利用氧化石墨烯(GO)在不同基底上制造出具備石墨烯相關性質的器件,以期在一些場合替代CVD制備的石墨烯。結構決定性質。氧化石墨烯(GO)的能級結構由sp3雜化和sp2雜化的相對比例決定[6],調節含氧基團相對含量可以實現氧化石墨烯(GO)從絕緣體到半導體再到半金屬性質的轉換GO的生物毒性除了有濃度依賴性,還會因GO原料的不同而呈現出毒性數據的多樣性。

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GO的載藥作用也可促進間充質干細胞的成骨分化。如用攜帶正電荷NH3+的GO(GO-NH3+)和攜帶負電荷COOH-的GO(GOCOOH-)交替層疊使其**外層為GO-COOH-,以這種GO作為載體,攜帶骨形態發生蛋白-2(BMP-2)和P物質(SP)附著到鈦(Ti)種植體上,結果以Ti為基底,表面覆蓋GO-COOH-,攜帶BMP-2和SP(Ti/GO-/SP/BMP-2)種植體周圍的新骨生成量要明顯多于Ti/SP/BMP-2、Ti/GO-/BMP-2、Ti/GO-/SP。這證明GO可以同時攜帶BMP-2和SP到達局部并緩慢釋放,增加局部BMP-2和SP的有效劑量且發揮生物活性作用[89,90]。GO的這種雙重攜帶傳遞作用在口腔種植及骨愈合方面起著重要的作用。而體內羥磷灰石(hydroxyapatite,HA)是一種常用于骨組織修復的磷酸鈣陶瓷類材料。在HA中加入GO,可以增強其在鈦板表面的附著強度;以HA為基底,表面覆蓋GO的復合物(GO/HA)表現出比純HA更高的抗腐蝕性能,細胞活性也更強。氧化石墨烯的表面官能團與水中的金屬離子反應形成復雜的絡合物。浙江官能化氧化石墨

氧化石墨可以用于提高環氧樹脂、聚乙烯、聚酰胺等聚合物的導熱性能。制造氧化石墨材料

盡管氧化石墨烯自身可以發射熒光,但有趣的是它也可以淬滅熒光。這兩種看似相互矛盾的性質集于一身,正是由于氧化石墨烯化學成分的多樣性、原子和電子層面的復雜結構造成的。眾所周知,石墨形態的碳材料可以淬滅處于其表面的染料分子的熒光,同樣的,在GO和RGO中存在的SP2區域可以淬滅臨近一些物質的的熒光,如染料分子、共軛聚合物、量子點等,而GO的熒光淬滅效率在還原后還有進一步的提升。有很多文章定量分析了GO和RGO的熒光淬滅效率,研究表明,熒光淬滅特性來自于GO、RGO與輻射發生體之間的熒光共振能量轉移或者非輻射偶極-偶極耦合。制造氧化石墨材料

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